台积电光刻机
台积电已制造超10亿颗完好芯片对其公司来说意味着什么?
每台EUV光刻机的售价达上亿美金，高价难觅，台湾积体的7nm工艺第一次引入极紫外光刻机，因此台积电的芯片制造技术始终保持在全球水准的最前沿，值得一提的是，台湾积体将7nm工艺融入n6工艺，进而将逻辑相对密度提高了20%，为台湾积体的7nm芯片提供了更强的成本效益。处理芯片的工艺，产品合格率，生产...
荷兰光刻机
荷兰光刻机如下：荷兰有一家公司ASML，它是全球做光刻机最好的国家，这个根本不用质疑，这家公司拥有强大的科研实力，碾压了美国英国等等貌似芯片软件实力极强的国家。而且这家公司非常精准的抓住了光刻机技术发展的转折点，旗下的利用光源进行的浸没式系统成功打破所有国家对于光刻机的幻想，所以荷兰才能...
一台ASML7纳米光刻机月产能有多大?
下图是硅锭和晶圆。特别说明，仔细看的话，会发现下图右边的晶圆有多种尺寸，最小的仅有不到乒乓球大（历史上最早的晶圆只有拇指大），最大的超过普通菜盘。晶圆是制造芯片的基材，通过光刻机等设备在晶圆上制造出超大规模集成电路，这些集成电路在晶圆上是一个个指甲大的小方块，行话叫die，如下图。...
7nm光刻机有多厉害
随着半导体技术不断进步，7纳米(nm)制程迅速发展。而7nm光刻机作为半导体生产线的重要设备之一，也随之得到了极大的关注。1.更高的精度 7nm光刻机与前几代光刻机相比，具有更高的分辨率和更精细的曝光技术。它能够在极小的面积内进行微细模式的制造，从而在芯片上实现更高的集成度和更低的功耗。这是...
euv光刻用什么光源?
SSMB光源的潜在应用之一是将来成为EUV光刻机的光源，这是国际社会高度重视清华大学SSMB研究的重要原因。在芯片制造行业，光刻机是必不可少的精密设备，是集成电路芯片制造中最复杂，最关键的工艺步骤，光刻机的曝光分辨率与波长直接相关，在半个多世纪以来，波长光刻技术的光源的规模正在缩小，这已被芯片...
ASML是唯一能制造极紫外光刻机的厂商,芯片制造到底有多难?
生产芯片最重要的设备是光刻机，世界上先进的光刻机主要由荷兰一家名为阿斯麦（ASML）的公司制造，市场占有率超过80%。其中最先进的极紫外光刻机（EUV光刻），全世界只有ASML一家公司能制造。ASML虽然是一家荷兰的公司，但出口光刻机受到西方国家的严格控制。ASML的大股东包括美国因特尔、台湾积体电路...
一台荷兰光刻机多大面积啊
100平方米至200平方米。荷兰光刻机是一种高精度的半导体制造设备，主要用于制造集成电路，大小在100平方米至200平方米。
能造5nm芯片的euv光刻机,三大核心技术
1. 概述 EUV（Extreme Ultra Violet）光刻技术是目前半导体生产中最重要的先进制造技术之一。它是一项先进的制造技术，可以将微型和纳米电子元件的大小减小到5纳米。当今市场上许多领先的半导体公司，如Intel和TSMC，已经开始将EUV纳入其生产流程。2. EUV光刻机的核心技术 EUV光刻机主要由三个部分组成：...
90nm光刻机能做啥样的手机?
您提起的上海那家公司是上海微电子装备有限公司，截止现在（2020\/06\/13）这家公司最先进的光刻机确实是90纳米的水平。但是不管是苹果和安卓，都没有经过90纳米的过程，第一代和第二代iPhone的CPU是ARM11，使用的是130纳米的工艺，第三代的iPhone3GS已经用上65纳米的工艺。到了iPhone4时已经用上45纳米...
生产光刻机有哪些上市公司?
生产光刻机上市公司有ABM、上海微电子装备有限公司、佳能、尼康、荷兰ASML公司.1、ABM ABM公司成立于1986年，总部位于美国硅谷San Jose。主要经营光罩对准曝光机（光刻机），单独曝光系统,光强仪\/探针。公司的主要市场在美国和亚洲。2、上海微电子装备有限公司 上海微电子装备有限公司坐落于张江高科技园区...
江北区十味回答： 给你科普一下 ,手机芯片分为设计和制造,芯片设计商有高通骁龙8XX系列、苹果AXX系列、华为麒麟9XX系列、三星猎户座8XXX系列,还有联发科的芯片,以上公司都是能自己设计芯片的,但是,但是,但是他们自己(除了三星)做不出来手机芯片,因为他们(除了三星)没有ASML光刻机,据我所知手机行业就三星和台积电有ASML光刻机,所以现在就台积电和三星能制造芯片,制造和设计要分开,三星的制造工艺比不上台积电.
蒙径13656249389问： 华为和台积电谁哪个厉害点 - ？
江北区十味回答： 台积电的实力大. 1. 市场占有率优势. 由于技术比较先进,并且台积电和美国的关系很好,因此不会受到光刻机的进口限制,正因如此,台积电才能够实现如此大的产能.台积电正在给苹果、高通、联发科和麒麟芯片做代工,市场占有率几乎达到了百分之60.这样巨大的市场占有率让台积电的收入成为半导体设计企业的第一名. 2. 技术优势. 台积电掌握着世界上最先进的芯片制造技术.台积电的技术储备十分充足,现在已经在代工生产5nm的芯片了,可以说,台积电的技术就代表着目前手机芯片最先进的技术,在全世界范围内也只有三星半导体可以和台积电硬碰硬.
蒙径13656249389问： 为什么华为的处理器不自己生产,而交给 - ？
江北区十味回答： 因为外国不把高端的光刻机卖给中国,中国并没有生产高端芯片的机器
蒙径13656249389问： 手机CPU中基于ARM构架设计CPU的“海思”,基于ARMv7 - A指令集自行设计CPU架构的＂高通＂技术难度有何差别? - ？
江北区十味回答： 通俗来说,光刻机就是用来生产集成电路的,就是造芯片的机器,ASML/Nikon/Canon这三家就造光刻机;台积电/三星/中芯国际这三家是芯片制造商,配备(或者说购买)前三家产的光刻机造芯片;联发科/海思干的就是买下arm(同时推出指...
蒙径13656249389问： 台积电的制造工艺为什么总是赶不上intel? - ？
江北区十味回答： 作为半导体行业的老大,人才主要集中在Intel那里.半导体制程还是挺烧钱的,Intel的资本确实也是个优势.所以Intel拥有领先全行业一代的制程红利.TSMC属于Fab.而Intel是半导体行业中目前已为数不多的有晶圆厂,可以覆盖芯片产品的上下游.所以Intel可以对设计、生产进行联动升级.而TSMC则更注重工艺的兼容性,毕竟它要生产不同企业的半导体产品,所以TSMC面临的问题反而比Intel更麻烦.在半导体制程进入纳米极限之后,在一些技术细节方面,TSMC和Intel采用的解决方法也不同,如HKMG等问题,致使工艺和性能上都有差别.TSMC的28nm工艺基本上和Intel的32nm工艺对等.
蒙径13656249389问： 光刻机的介绍 - ？
江北区十味回答： 光刻机/紫外曝光机(Mask Aligner) 又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等.常用的光刻机是掩膜对准光刻,所以叫 Mask Alignment System.一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序.Photolithography(光刻) 意思是用光来制作一个图形(工艺);在硅片表面匀胶,然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时“复制”到硅片上的过程.
蒙径13656249389问： 晶片线宽现在最窄是多少 - ？
江北区十味回答： 线宽最小已降到0.13um,当然还有可能更小(可能未公开或者正式商用).
蒙径13656249389问： 缩小半导体工艺尺寸能走多远? - ？
江北区十味回答： 特约撰稿 莫大康 推动半导体业进步有两个轮子,一个是工艺尺寸缩小,另一个是硅片直径增大,而且总是尺寸缩小为先.由半导体工艺路线图看,2013年应该进入14纳米节点,观察近期的报道,似乎已无异议,而且仍是英特尔挑起大梁.尽管...
