90nm光刻机能做啥样的手机？
您提起的上海那家公司是上海微电子装备有限公司，截止现在（2020/06/13）这家公司最先进的光刻机确实是90纳米的水平。但是不管是苹果和安卓，都没有经过90纳米的过程，第一代和第二代iPhone的CPU是ARM11，使用的是130纳米的工艺，第三代的iPhone3GS已经用上65纳米的工艺。到了iPhone4时已经用上45纳米工艺的自研A4处理器。
高通进入手机芯片制造稍微晚一些，是从65纳米开始的。从第二代S2系列以后才用上45纳米工艺。第一代小米手机M1用的是高通骁龙第三代S3系列的MSM8260处理器。
芯片制造主要看光刻机精度和工艺。按照现在的工艺，用90纳米光刻机经过两次曝光，可以获得45纳米的芯片，三次曝光可以最高达到22纳米的水平，三次曝光良品率过低，一般都控制在28纳米或者32纳米。也就是相当于苹果iPhone5/5S的A6/A7处理器水平，或者华为畅享6/7系列、小米红米4系列。
综上所述，利用现代工艺，在使用90纳米光刻机的情况下，我们可以做出90纳米、45纳米、28纳米的手机芯片。这几种芯片完全涵盖智能手机的范围，不会回到大哥大时代！
另外，上海微电子已经完成28纳米光刻机的突破，将于明年（2021年）正式交付使用！28纳米国产光刻机经过多次曝光工艺可以生产28纳米、14纳米、10纳米芯片，极限状态下，不考虑成本和良品率的情况下，也可以生产7纳米芯片。
90 纳米制程工艺的芯片到底有多大，能做什么样的手机？
想想，台积电在大概在2004年，2005年的时候它的90纳米制程工艺技术才完全成熟起来，其实上述这个标题表述不准确，不是90纳米的光刻机，应该说90纳米制程工艺，纳米就是比头发丝还小的概念，90纳米并不是说的芯片整体外观大小，而说的是在芯片上光刻布置的元器件的间距。在芯片上光刻元器件，电路就跟拿着图纸在地基上建设许多房子与基础设施一样，建成后形成一个强大的整体处理功能区，这就是芯片。
其实90纳米制程工艺的芯片整体外观大小与现在7纳米，14纳米制程工艺芯片整体外观差不多一样的，只是芯片上面布置的元器件多少的问题，比如90纳米制程工艺芯片上可以光刻上10亿个元器件，那么7纳米制程工艺的芯片就可能布置上50亿个元器件，很简单的问题，那么肯定的是7纳米制程工艺的芯片功能要强大的多，因为7纳米制程工艺的芯片上元器件要多得多，设计更完善，更合理，功能越强大。
那么有90纳米制程工艺技术的光核机能做啥样的手机？不要小看90纳米制程工艺的芯片在大概2004年时候才成熟，那时候用90纳米制程工艺做的芯片在很多大牌手机上用过，80后的大哥肯定用过这样的手机，比如德州仪器的90纳米制程工艺的 OMAP 1710 CPU，那时候这个处理器就搭载在诺基亚一系列型号手机上，像N90，N80，E70，E60，主要诺基亚的N系列与E系列产品上，用过诺基亚手机都知道手机本身整体也不大，因此90纳米制程工艺与7纳米制程工艺做出来的芯片并不是说外观上有大小的关系，主要是功能上大小的关系。
估计不会只做2G手机和大哥大！我虽外行不懂技术，可以想象一，1纳米是比一根头发小20000倍90纳米有多大？可能功能上不如7/9纳米，现在的手机某些功能对多数人没多大用或者根本用不上。因为竞争状态下厂家以功能争销量！所以说断供芯片不是手机一下回到2G或大哥大年代！压力变动力相信中国人定能解决这个难题！唯有如此！屈服只会换来更大的耻辱！
苹果的第一款手机cpu APL0098，于2007由三星电子90nm工艺制作的，它用于iphone 3G和第一代iphone touch上。
也就是说90nm工艺造出来的芯片只能用于几乎算第一代的智能手机上，现在即使程序支持这个cpu，但是跑啥程序都会卡的没法用。
别的不说，做出来的手机同样性能的情况下个头肯定不小。因为在相同性能的情况下芯片的面积需要大很多倍。再就是架构之类的也有很大的关系。纯小白，只能说这些了。
遇到困难迎难而上的是勇士，跪下求饶的是软蛋，自己跪下还对敢于面对困难的勇士冷嘲热讽嫌人不跪好的是贱人。90nm的工艺如果是我们能够使用的最好技术的话，在有限资源的基础上克服困难也会有一个能够接受的结果。至于目前貌似拦路虎的芯片问题，以中国举国之力，必将成为我们这个民族前进道路上的一个路标。
要看是90纳米制程还是90纳米的光刻机。90纳米制程和现在主流7纳米相差太大不适合做手机芯片，因为手机芯片追求体积小巧和低功耗。如果是90纳米光刻机并不是做出来的芯片就是90纳米，可以曝光3次达到14纳米级别。但是7纳米以下基本就是euv能做，asml最先进的机器是13.5纳米，并不是波长5纳米7纳米
当年塞班软件挺好的，几百K大小。软件优化夏不行么？非的堆硬件？
90纳米的光 科技 根本不可能做手机，现在正常的手机用20纳米以上的工艺的都很难找到了，90纳米至少是十几年前就已经被手机和电脑处理器淘汰的产品了。
几周前随上科院去几家IC相关企业调研，得到的消息是，国内企业要抱团，1-2年，从头到尾，全国产国有自主，做出90nm，做出来就是伟大胜利的第一步。这个不是用不用在手机上的问题，就像当年的盾构机，是0到1的突破。制成到5nm要再进一步，2nm已经登天，花再大代价到更小制成，意义真不大，留给我们一些时间去追赶。当然，光芯片是另外的出路，也在研究积累。说实话，当我听到业界大佬说90nm，我开始是心里哇凉哇凉的，但转念一想，也能释然，不积跬步无以至千里。这次调研给我信心是，相关从业企业里年轻人挑起大梁，一点一滴的做着该做的事。
中国光刻机技术能达到多少nm
虽然与世界顶尖光刻技术相比，90纳米的精度仍有差距，但这一成就显示了中国在光刻技术上的实力和潜力。90纳米光刻机能够满足多种芯片制造的需求，特别是在物联网、汽车电子等领域，其芯片尺寸要求并非极端。这一技术进步，为中国光刻机产业进一步发展奠定了基础。展望未来，随着中国光刻机技术的持续创新，...
aswl光刻机是什么东西
衡量光刻机最重要的指标，就是这台光刻机可以生产出来制程为多少nm的芯片，因为本质上说，制程越低，芯片功耗越小、性能越强。最强大的光刻机就是荷兰ASML公司生产的通过极紫外光(EUV)进行光刻的光刻机，可以制造制程为7nm的芯片——这是其他任何的光刻机都没有办法相比的。
光刻机多少纳米
光刻机是目前半导体制造行业中的关键设备，其制程精度通常以纳米（nm）来衡量。目前，先进的光刻机技术已经能够达到几纳米的级别。具体来说，光刻机的制程精度指的是它能够在硅片上刻画出的最小线条宽度。这个精度直接决定了芯片上晶体管的密度和性能。随着技术的不断进步，光刻机的制程精度也在逐渐提升...
回购光刻机是什么梗?
接触式曝光机指的是掩膜板直接与光刻胶层接触，曝光出来的图形与掩膜板上的图形分辨率相当的设备。根据施加力量的方式不同，接触式曝光又分为软接触、硬接触和真空接触。2、接近式曝光机 接近式曝光机指的是掩膜板与光刻胶基底层保留一个微小的缝隙，缝隙大约为0~200μm。接近式曝光机可以有效避免与...
光刻机原理是什么,为何在我国如此重要?
我们国家自己研发的光刻机目前最好的是上海微电子的90nm制程的光刻机,跟ASML差距很大，虽然这条道路很艰难，但是如果我们做不出来，美国就会一直卡我们的脖子，我们自己的光刻机也在努力追赶世界先进水平。光刻机涉及的核心技术太多，不是几句话能说透，否则也不至于成为“卡脖子”的技术与设备，至少从...
光刻机为什么nm越小越好?
因为就可以在更小的晶圆上刻出更大规模的集成线路什么的
光刻机的极限在哪里?
之前中芯国际副总曾经在喜马拉雅的音频节目中回答过这一提问，他说1nm的光刻机工艺并不是技术上难以逾越的门槛。只是目前采用投影或浸入式的技术还难以做到1nm工艺，但其实世界上已有直写技术可以做到1nm了，只是采用直写技术的硅片没有商用价值，只能制作掩膜版用，所以说3nm更不是极限了，那么光刻机的...
中国目前光刻机处于怎样的水平?
一旦这些5nm的光刻机开始售卖，到时候对手机芯片来说将会是又一场革命。中端光刻机市场ASML、尼康、佳能相互竞争其实说竞争有点过了，按照目前的情况来看是ASML占据大优势，尼康和佳能陪跑。日本的尼康和佳能其实在十年前还是和ASML同等水平，但是由于方向选择错误，进而在光刻机进程中逐渐落败，高端光刻...
光刻机是什么?目前我国光刻机的加工精度是多少?
但是设计芯片的高端软件还主要依赖于海外。我们中国现如今可以量产的光刻机才发展到90nm，距离国际水平我们还是有很长的路要走的。但相信在不久的将来，我们国家也能研制出属于我们自己的光刻机。到那个时候我们就不需要受到外国人的制裁了，因为我们就能制造出芯片供我们的国民使用。
俄罗斯首台光刻机,真的制造成功了
两年后，俄罗斯第一台光刻机正式制造成功并进入测试阶段。俄罗斯接下来的目标是在2026年制造可以支持130nm工艺的光刻机，下一步是开发90nm光刻机。俄罗斯的光刻机技术已经取得实际意义的突破，第一台国产光刻机已经创建并正在测试中，能生产最大350nm尺寸的芯片。俄罗斯联邦工业和贸易部副部长瓦西里·什...
伯牙吾台家菲而： 台积电的实力大. 1. 市场占有率优势. 由于技术比较先进,并且台积电和美国的关系很好,因此不会受到光刻机的进口限制,正因如此,台积电才能够实现如此大的产能.台积电正在给苹果、高通、联发科和麒麟芯片做代工,市场占有率几乎达到了百分之60.这样巨大的市场占有率让台积电的收入成为半导体设计企业的第一名. 2. 技术优势. 台积电掌握着世界上最先进的芯片制造技术.台积电的技术储备十分充足,现在已经在代工生产5nm的芯片了,可以说,台积电的技术就代表着目前手机芯片最先进的技术,在全世界范围内也只有三星半导体可以和台积电硬碰硬.
鱼峰区18726828717： 目前哪些公司能制造手机芯片? - ？
伯牙吾台家菲而： 给你科普一下 ,手机芯片分为设计和制造,芯片设计商有高通骁龙8XX系列、苹果AXX系列、华为麒麟9XX系列、三星猎户座8XXX系列,还有联发科的芯片,以上公司都是能自己设计芯片的,但是,但是,但是他们自己(除了三星)做不出来手机芯片,因为他们(除了三星)没有ASML光刻机,据我所知手机行业就三星和台积电有ASML光刻机,所以现在就台积电和三星能制造芯片,制造和设计要分开,三星的制造工艺比不上台积电.
鱼峰区18726828717： 光刻机和刻蚀机的区别 - ？
伯牙吾台家菲而： 刻蚀相对光刻要容易.光刻机把图案印上去,然后刻蚀机根据印上去的图案刻蚀掉有图案(或者没有图案)的部分,留下剩余的部分.“光刻”是指在涂满光刻胶的晶圆(或者叫硅片)上盖上事先做好的光刻板,然后用紫外线隔着光刻板对晶...
鱼峰区18726828717： 光学光刻能用于制作纳米尺度图形吗 - ？
伯牙吾台家菲而： 纳米尺度你指的是多大?一般而言,小于1微米就可以成为纳米尺度.现在光学手段的光刻技术(193 nm光刻机)做到22 nm以下没有问题,看看intel的cpu产品就是最好的例子,但是这种光刻机价格十分昂贵.还有极紫外光刻(10 nm-14 nm光源)也是制备10 nm左右图形的选择方案之一.
鱼峰区18726828717： 手机cpu10nm 16nm 20nm是什么意思 - ？
伯牙吾台家菲而： 制作工艺.虽然没有很大区别,目前可以认为(一般情况)纳米级数越低,性能越好.
鱼峰区18726828717： 这2个机子哪个好点. - ？
伯牙吾台家菲而： 第一个是90NM的3600+ 第二个应该是1.9G把,如果是的话就是65NM的3600+ 65NM的比90NM的更具有超频潜力,一般来说也更省电,虽然都是65W
鱼峰区18726828717： C7好在哪里? - ？
伯牙吾台家菲而： lz列的几个安卓机子,我来对比下.1、摩托罗拉me525,优点是cpu强劲,三防.但GPU比C7差,安卓机子里面GPU比塞班3强的也只有使用高通8255带的GPU了. 屏幕大一些,分辨率高但是tft材料,moto省成本的手段.C7分辨率低但oled屏...
鱼峰区18726828717： 华硕P5SD2 - X SE能上酷睿E4300吗? - ？
伯牙吾台家菲而： 完全不支持!!
鱼峰区18726828717： 国内家公司的光刻机性价比好? - ？
伯牙吾台家菲而： 现在光刻机品牌挺多,还要看你用于做科研,还是生产,量产的话配置要求高,性价比也不会多高,科研或小规模生产的话,高性价比的有SUSS,NXQ或一些韩国台湾品牌,我接触的一些高校实验室都用NXQ的
鱼峰区18726828717： 手机CPU中基于ARM构架设计CPU的“海思”,基于ARMv7 - A指令集自行设计CPU架构的＂高通＂技术难度有何差别? - ？
伯牙吾台家菲而： 通俗来说,光刻机就是用来生产集成电路的,就是造芯片的机器,ASML/Nikon/Canon这三家就造光刻机;台积电/三星/中芯国际这三家是芯片制造商,配备(或者说购买)前三家产的光刻机造芯片;联发科/海思干的就是买下arm(同时推出指...
