什么是光刻技术
随着半导体技术的发展，光刻技术传递图形的尺寸限度缩小了2～3个数量级（从毫米级到亚微米级），已从常规光学技术发展到应用电子束、X射线、微离子束、激光等新技术；使用波长已从4000埃扩展到0.1埃数量级范围。光刻技术成为一种精密的微细加工技术。
什么是光刻技术
光刻技术是集成电路制造中利用光学-化学反应原理和化学、物理刻蚀方法，将电路图形传递到单晶表面或介质层上，形成有效图形窗口或功能图形的工艺技术。随着半导体技术的发展，光刻技术传递图形的尺寸限度缩小了2～3个数量级（从毫米级到亚微米级），已从常规光学技术发展到应用电子束、X射线、微离子束、激光...
光刻是什么
光刻是一种重要的制造技术，主要应用于半导体产业中芯片的生产流程。光刻，简单来说，是一种通过光学或化学方法，在硅片上精确地刻画和复制微小图案的技术。其基本原理是利用特定的光源通过掩模版对光敏材料进行选择性地曝光，随后通过显影等化学处理，将掩模版上的电路图案复制到硅片表面的光敏材料上，形成微...
什么是光刻技术?
光刻技术就是在需要刻蚀的表面涂抹光刻胶，干燥后把图形底片覆盖其上，有光源照射，受光部分即可用药水洗掉胶膜，没有胶膜的部分即可用浓酸浓碱腐蚀表面。腐蚀好以后再洗掉其余的光刻胶。现在为了得到细微的光刻线条使用紫外线甚至X射线作为光源。
光刻技术是什么
光刻机（Mask Aligner) 又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻，所以叫 Mask Alignment System。是指在硅片表面匀胶，然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时“复制”到硅片上的过程。并不是单纯的激光，其曝光系统基本上使用的是复杂的紫外光源...
什么是光刻技术?
光刻机，也称作掩模对准曝光机或曝光系统，是制造芯片的核心设备。它利用类似于照片冲印的技术，通过光线的曝光，将掩膜版上的精细图形转移到硅片上。ASML是全球顶尖的半导体设备制造商，其先进的光刻机技术在芯片制造过程中得到广泛应用。2018年，由于美国的限制，ASML被要求停止向中国出售光刻机，这导致...
光刻技术的原理是什么?
光刻是制造半导体器件和集成电路的关键工艺之一。自20世纪60年代起，这项技术通过使用带有图形图案的掩模覆盖在半导体芯片表面，从而形成半导体器件的不同工作区域。随着集成电路中器件数量的增加，对单个器件尺寸及其间距的要求也随之减小，因此常常以光刻技术能够分辨的最小线条宽度来衡量集成电路的工艺水平。国...
什么是光刻技术?
回购光刻机指的是中国芯片企业要求ASML回购已经购买的700台光刻机。光刻机，又名掩模对准曝光机、曝光系统等，是制造芯片的核心装备。光刻机采用类似照片冲印的技术，能够把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。ASML是全球领先的半导体设备制造商，其先进的光刻机技术被广泛应用于芯片制造过程...
什么是光雕技术?烧刻是什么意思?
光雕技术，或者光刻技术是微电子技术的一支，它是利用激光在一片高纯度硅或锗晶片上通过烧蚀，掺杂，扩散并制作出所需的晶体管集成电路，现在光刻技术不仅能在一片单晶硅上制作出数千万数量级的二级管，三级管，场效应管，也能通过结电容制作出微电容，只是电感的制作还有困难。光刻技术是微电子技术不可...
光刻技术概述及其分类
在半导体行业的璀璨星河中，光刻技术犹如璀璨的繁星，照亮了微电子世界的精密制造之路。作为电路制造的灵魂工艺，它通过光或电子束的魔术，将设计蓝图转化为微小的电路世界。赵工，这位半导体工程师，将带我们深入探索这一技术的魅力与分类。复制微小世界的艺术：光刻工艺 光刻，是光的魔术师，通过掩膜版将...
光刻是什么意思?
这时我们就需要使用“光刻”技术。6. 光刻的过程是在金属表面铺一层感光膜，然后用光去照射它。被光照到的地方，感光膜会被“烧掉”。7. 然后，用一个画有电路图的“纸片”挡住光，这样就把电路应该存在的地方留了下来。8. 最后，将这块板子放入对应的液体中浸泡，CPU内部的电路就制作完成了。
弥宙万舒： 发错了地方:))我把你的问题看错了,重新回答你:一,喷墨打印头的光刻技术,打印头是一种特殊的材质,采用激光雕刻的技术,加工出打印喷孔,打印头的精细程度更好.更加省墨.二,如果你问的还不是这个问题,那就是现在有一款打印机是和光盘记录机集成了,现在这种产品已经见过报道,但是说实话,市场上我还没有看到.而且我认为意义也不大.
肃宁县15820313824： 光刻技术的原理是什么? - ？
弥宙万舒： 光刻工艺是利用类似照相制版的原理,在半导体晶片表面的掩膜层上面刻蚀精细图形的表面加工技术.也就是使用可见光和紫外光线把电路图案投影“印刷”到覆有感光材料的硅晶片表面,再经过蚀刻工艺去除无用部分,所剩就是电路本身了....
肃宁县15820313824： 什么是光刻技术?？
弥宙万舒： http://www.cnieee.com/wdj/gk/200903/4107.html
肃宁县15820313824： 电子束光刻,什么是电子束光刻 - ？
弥宙万舒： 电子束曝光(electron beam lithography)指使用电子束在表面上制造图样的工艺,是光刻技术的延伸应用. 光刻技术的精度受到光子在波长尺度上的散射影响.使用的光波长越短,光刻能够达到的精度越高.根据德布罗意的物质波理论,电子是一种波长极短的波.这样,电子束曝光的精度可以达到纳米量级,从而为制作纳米线提供了很有用的工具.电子束曝光需要的时间长是它的一个主要缺点.为了解决这个问题,纳米压印术应运而生. 电子束曝光在半导体工业中被广泛使用于研究下一代超大规模集成电路.
肃宁县15820313824： 什么是微光刻,跟激光光刻有什么区别? - ？
弥宙万舒： 微光刻只是光刻的一种说法.一般来说,英文对光刻技术的叫法有photolithography,microlithography等等,但是意思上没有本质区别.lithography的英文愿意是印刷,加上photo或者micro目的是区别光刻和传统印刷技术. 采用激光进行光刻的种类和用途很多,直接说激光光刻很不科学,因为用激光光源进行光刻的有激光直写光刻,准分子激光步进式投影光刻,准分子激光接触式光刻等等.而光刻技术往往不依据光源来划分,所以这种“激光光刻”的说法还是不要用. 光刻的种类很多,采用激光进行光刻的方式只是其中的一部分,所以应该是包含的关系.
肃宁县15820313824： 计算机光刻是什么意思? - ？
弥宙万舒： 计算机的 光盘刻录
肃宁县15820313824： 光刻和刻蚀有什么区别? - ？
弥宙万舒： 这两个词是半导体工艺中的重要步骤,需要配合剖面图讲解,最好自己找本半导体工艺的书看. “光刻”是指在涂满光刻胶的晶圆(或者叫硅片)上盖上事先做好的光刻板,然后用紫外线隔着光刻板对晶圆进行一定时间的照射.原理就是利用紫外线使部分光刻胶变质,易于腐蚀. “刻蚀”是光刻后,用腐蚀液将变质的那部分光刻胶腐蚀掉(正胶),晶圆表面就显出半导体器件及其连接的图形.然后用另一种腐蚀液对晶圆腐蚀,形成半导体器件及其电路. 建有流水线的商家有,海力士,华润等等.有兴趣可以网上的半导体技术交流论坛看看.
肃宁县15820313824： 光刻机和刻蚀机的区别 - ？
弥宙万舒： 刻蚀相对光刻要容易.光刻机把图案印上去,然后刻蚀机根据印上去的图案刻蚀掉有图案(或者没有图案)的部分,留下剩余的部分.“光刻”是指在涂满光刻胶的晶圆(或者叫硅片)上盖上事先做好的光刻板,然后用紫外线隔着光刻板对晶...
