cvd化学气相沉积设备
国外图纸上的表面处理 ELVZ 和VD分别代表什么意思啊?
VD是气相沉积!分PVD,CVD,PCVD等,VD表示气相在固体表面沉积!PVD是物理气相沉积CVD是化学气相沉积PCVD是等离子气相沉积 这些设备小日本多!比较简单的理解是把他想象成渗碳,只是把碳改为各种金属或者是金属化合物!
PVCVD是什么意思
一种装潢材料，咱们俗称“PVC"
原子层沉积的应用
原子层沉积技术由于其沉积参数的高度可控型（厚度、成份和结构）原子层沉积（Atomic Layer Deposition，ALD），最初称为原子层外延（Atomic Layer Epitaxy，ALE），也称为原子层化学气相沉积（Atomic Layer Chemical Vapor Deposition，ALCVD）。原子层沉积是在一个加热反应器中的衬底上连续引入至少两种气相前...
石墨烯镀膜技术是PVD还是CVD?
是CVD技术，CVD技术里面有不同分类：PECVD 等离子增强化学汽相淀积 MWCVD 微波等离子增强化学汽相淀积 CVD 普通的只是加热的化学汽相淀积
碳化硅(SIC)晶体生长方法之——化学气相沉积法的详解;
原子层化学气相沉积（ALCVD）允许原子层厚度分辨率、高纵横比表面的卓越一致性以及无针孔层的制备，具有对薄膜成分和厚度的出色控制能力。ALD过程通常涉及自我限制反应中原子层的连续形成，其粗糙度受前驱体温度、反应室真空度、基片温度等多因素影响。高产能管式PECVD设备适用于晶硅电池制造，能够显著降低综合...
Cu Ag Au是什么意思?
薄膜集成电路——真空蒸镀、溅射、化学气相沉积技术 厚膜集成电路——浆料喷涂在基片上、经烧结而成(丝网印刷技术) 3、混合集成电路(Hybrid Integrated Circuit) 特点:充分利用半导体集成电路和膜集成电路各自的优点,达到优势互补的目的; 工艺:用膜工艺制作无源元件,用半导体IC或晶体管制作有源器件。 三种集成电路的比较...
谁帮忙翻译下
代表进口商\/\/中国人公司公司\/AD&CVD专门知识:怀特和凯斯((代表中华人民共和国公司和一个美国分发者);Steptoe和靠妓女养活的人;Crowell和Moring;Dewey和LeBoeuf;荷兰和Knight Dewey在的在上涂CVD把纸装入盒子的纸上向我们提供的情况介绍. 高潮:当外国公司不肯对他们的各种各样一组问题作出反应的时候,DOC...
光纤怎么分类?各有什么特点?
首先说一下.用于通讯的光纤也有两大类.普通光纤与特种光纤(特种光纤应用不同,分类不同,种类繁多,功能各异,在此不细说,如果想知道哪种你可以再问.)光纤的种类和制造工艺 光纤分为多模光纤和单模光纤。多模光纤分为阶跃型多模光纤和梯度型多模光纤。阶跃型多模光纤---芯玻璃的折射率n1必须大于包层玻璃...
光纤怎么分类?各有什么特点?
首先说一下.用于通讯的光纤也有两大类.普通光纤与特种光纤(特种光纤应用不同,分类不同,种类繁多,功能各异,在此不细说,如果想知道哪种你可以再问.)光纤的种类和制造工艺 光纤分为多模光纤和单模光纤。多模光纤分为阶跃型多模光纤和梯度型多模光纤。阶跃型多模光纤---芯玻璃的折射率n1必须大于包层玻璃...
光纤怎么分类?各有什么特点?
多模光纤分为阶跃型多模光纤和梯度型多模光纤。阶跃型多模光纤---芯玻璃的折射率n1必须大于包层玻璃折射率n2，在玻璃与包层玻璃的界面上折射率呈阶跃增大，且各自恒定不变，这光纤结构最单，制作最容易，但模色散大，带宽窄，已经很少使用。梯度型多模光纤---采用芯玻璃折射率自光纤芯轴最大n1处逐渐...
道真仡佬族苗族自治县奥天回答： 半导体CVD设备是用于进行半导体材料制备的化学气相沉积(CVD)过程的专用设备.这些设备通常具有以下主要组成部分:1. 反应室(Reaction Chamber):这是进行化学反应和薄膜沉积的主要区域.反应室通常由高温耐受材料构成,以容...
辟良17185572552问： cvd化学气相淀积法需要什么仪器 - ？
道真仡佬族苗族自治县奥天回答： 1,首先你需要一台化学气相沉积机台,常见的有牛津的PECVD几台. 2,药品的话主要是一切特殊气体,如硅烷,氮气,氨气,氧气,笑气,氟化碳气体等. 3,试验步骤建议使用田口的DOE实验法,这样你可以省去一些不必要的试验.
辟良17185572552问： 请问CVD(化学气相沉积)的原理及应用? - ？
道真仡佬族苗族自治县奥天回答： 其含义是气相中化学反应的固体产物沉积到表面.CVD装置由下列部件组成;反应物供应系统,气相反应器,气流传送系统.反应物多为金属氯化物,先被加热到一定温度,达到足够高的蒸汽压,用载气(一般为Ar或H2)送入反应器.如果某...
辟良17185572552问： CVD化学气相沉积法反应步骤可区分为哪五个步骤? - ？
道真仡佬族苗族自治县奥天回答： 化学气相法又称化学气相沉积法,其反应步骤为: 1、用流化床进行连续处理.所以流化床-CVD 法可以生产多种碳纳米管.碳纳米管不仅可以生长在微米级的聚团状多孔催化剂颗粒上,也可生长在毫米级的陶瓷球的表面上,还可以生长在层状...
辟良17185572552问： 通风与空调中的CVD排气是指粉尘排气吗 - ？
道真仡佬族苗族自治县奥天回答： 要看是什么厂房制程,如果是光电厂的通常指的是制程设备的CVD制程设备的燃烧后尾气CVD废气(粉尘六氟化硅),由于燃烧时需要空气补偿所以就有了CVD外气(补偿SCR空气)!
辟良17185572552问： CVD法和HTHP法合成钻石的区别是什么 - ？
道真仡佬族苗族自治县奥天回答： 一、合成方法不同 1、CVD钻石:微波等离子体化学气相沉积法;温度和压力还是制造晶体的两项关键因素,其方法是在陶瓷容器中而不是在地下制造钻石,水压提供高压,电力产生高温,使碳围绕着直径为1毫米,由自然钻石制成的籽晶而形...
辟良17185572552问： 什么是CVD? - ？
道真仡佬族苗族自治县奥天回答： CVD(Chemical Vapor Deposition, 化学气相沉积),指把含有构成薄膜元素的气态反应剂或液态反应剂的蒸气及反应所需其它气体引入反应室,在衬底表面发生化学反应生成薄膜的过程.在超大规模集成电路中很多薄膜都是采用CVD方法制备.经过CVD处理后,表面处理膜密着性约提高30%,防止高强力钢的弯曲,拉伸等成形时产生的刮痕.
辟良17185572552问： CVD(化学气相沉积)的原理及应用是什么 - ？
道真仡佬族苗族自治县奥天回答：[答案] CVD(Chemical Vapor Deposition,化学气相沉积),指把含有构成薄膜元素的气态反应剂或液态反应剂的蒸气及反应所需其它气体引入反应室,在衬底表面发生化学反应生成薄膜的过程.在超大规模集成电路中很多薄膜都是采用CVD...
辟良17185572552问： PLC PVD CVD coating分别指什么? - ？
道真仡佬族苗族自治县奥天回答： 表面涂覆技术:物理气相沉积(PVD)、化学气相沉积(CVD)、射频溅射(RF)、离子喷涂(Plasma spraying coating, PSC)、化学镀等[38~42].PVD与CVD相比,其工艺过程中被处理工件的温生低,镀后不需再进行热处理,再轴承零件的表面处理中得到较广泛的应用.100Cr6、440C等钢制轴承零件经PVD、CVD或RF镀TiC、TiN、TiAlN等后,可提高轴承零件的耐磨性、接触疲劳抗力,降低表面摩擦系数. PVD还可以进行独特的PLC(polymer like carbon——类高分子聚合物)冶金润滑膜层沉积,进一步降低涂层表面的摩擦系数.
