2024中国光刻机新进展最新消息
作者&投稿：董党 （若有异议请与网页底部的电邮联系）
墨仲15285171362问： X - 射线在LIGA工艺中用于光刻的原因是? - ？
徽州区泰舒回答： LIGA工艺需要几十甚至几百微米深的光刻凹槽,这样的凹槽是传统硅平面工艺的光科技无法达到的,所以要使用特殊的工艺,即高能X射线(Deep X-ray),同时光刻胶使用PMMA.使用X射线的另一个原因是深的光刻凹槽需要高能量的辐射,且高能辐射也有利于侧墙的垂直,提高元件几何形状的精确度.
墨仲15285171362问： 现在中国最先进芯片工艺是多少纳米 - ？
徽州区泰舒回答： 中企最高技术28纳米,而且还是中芯挖的台干带来的技术芯片工艺最重要的机器是光刻机,目前被欧洲垄断.欧洲有条约禁止向社会主义国家出口类似光刻机的高科技设备
墨仲15285171362问： ＂新人＂“老人”“中人”退休待遇怎么算? - ？
徽州区泰舒回答： 1. “老人老办法”,即统一制度实施前已经退休的“老人”,其基本养老金的支付仍按照当地规定的标准发给养老金,并享受今后养老金正常调整时增发的补贴,也就是说实施“统账结合”对这个群体基本没有影响,该领多少领多少. 2. “新...
墨仲15285171362问： 机关事业单位已退休的中人工资什么时候兑现 - ？
徽州区泰舒回答： 机关事业单位退休的中人,自批准退休的次月起,养老金兑现.但其中,按新办法计算的基本养老金,高于老办法的部分,按每年兑现10%递增. 照国家统一部署,我省从2014年10月1日起实施机关事业单位养老保险制度改革.“中人”即改革...
墨仲15285171362问： 世界上最精密的仪器是什么? - ？
徽州区泰舒回答： 光刻机是一种曝光工具,这是光刻工程的核心部分,其造价昂贵,号称世界上最精密的仪器,目前世界是已有7000万美金的光刻机.光刻机堪称现代光学工业之花,其制造难度之大,到现在全世界也不过两三家公司能够制造而已.
墨仲15285171362问： 光刻过程中正面曝光和背面曝光的区别 - ？
徽州区泰舒回答： 最主要的区别就是正胶经曝光显影后可溶与显影液; 负胶经曝光显影后不溶与显影液同样一块mask, 正胶和负胶曝光显影后图形是相反的
墨仲15285171362问： 光刻中什么i线和g线 - ？
徽州区泰舒回答： 指的是波长,i线是指365nm,g线是指436nm,高压汞灯中能量最高的两个谱线.波长越短,光刻分辨率越高.
墨仲15285171362问： 中国哪家的光刻机功能,性能最好?？
徽州区泰舒回答： 上海微电子装备有限公司的步进式扫描光刻机吧,估计是中国最先进的了.SSA600/20 步进扫描投影光刻机采用0.75数值孔径和四倍缩小倍率的ArF投影物镜、工艺自适应调焦调平技术,以及高速高精的自减振六自由度工件台掩模台技术,实现可用于前道IC制造90nm关键层和非关键层的先进光刻设备.此外,该设备通过采用多种可供选择的先进专利照明技术,并配合其他分辨率增强技术,能够满足客户高于90nm分辨率的生产需求.该设备可用于8寸线或12寸线的大规模工业生产. 本人亲自用过,号称能有90nm分辨率但是实际使用情况看2um还是能达到的.6寸、8寸、12寸都能生产,人际界面良好,效率还算可以,跟国外同类型机器相比故障率稍高.
墨仲15285171362问： 光刻机中国能造吗?？
徽州区泰舒回答： 暂时不能光刻机不是一项单一的技术,而是现代各项高科技技术的集成,成品背后需要无数的产业链支持,以中国现在的科技水平暂时还不能造出.当中国专家去荷兰阿斯...
