从光刻机开始
1965年我国就有了光刻机,为什么现在却大幅度落后?
1965年，我国的第1台光刻机是从外国进口的，直到现在为止全国只有两个国家拥有光刻机的高科技手段。特别是荷兰的光刻机技术在全球是遥遥领先的，但由于荷兰受到美国的影响，并不愿意把光刻机的相关技术和设备出口给中国，导致中国的光刻机的技术研发和发展，大幅落后，经过了几十年的不断演变，也就造...
比亚迪开始攻克7纳米芯片和光刻机,超越ASML公司,有可能吗?
比亚迪启动了对7纳米芯片和光刻机的研发工作。尽管ASML公司目前在光刻机领域占据领先地位，但比亚迪在芯片设计方面的技术进步表明，挑战先进技术是有可能的。然而，要实现对ASML的超越，在当前技术环境下，仍然是一个充满挑战的目标。在7纳米芯片的研发上，比亚迪正致力于缩小与国际先进水平的差距。公司已具...
光刻机的发展历史
光刻技术的发展 1947年,贝尔实验室发明第一只点接触晶体管。从此光刻技术开始了发展。1959年,世界上第一架晶体管计算机诞生,提出光刻工艺,仙童半导体研制世界第一个适用单结构硅晶片。1960年代,仙童提出CMs|C制造工艺,第一台C计算机BM360,并且建立了世界上第一台2英寸集成电路生产线,美国GCA公司开发出光...
光刻机禁令是什么时候开始
2020年。光刻机禁令是2020年的时候开始的，光刻机（lithography）又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。
光刻机是什么东西
光刻机是一种用于制造微型电子设备的机器。它利用光刻技术，将芯片设计图案转移到硅片表面上，制造微型集成电路、光电器件和MEMS等微型器件。2. 光刻机的工作原理 光刻机的工作原理是利用紫外线光学系统将芯片设计图案投射到硅片表面上，然后将硅片暴露在光线下，使其被照射。然后再进行化学处理，通过光刻...
独立研发光刻机对中国意味着什么?
独立研发光刻机对我国意味着科技上打破西方国家的垄断，改变中国高新技术被国外封锁的局面，同时可以推动国家自主芯片的研发进展。目前世界上光刻机研发，由荷兰、美国、日本这三个国家掌握技术，根本不会对外开放也不会对外公布，导致中国一直在这方面有严重的制约。尤其是2020年全球疫情影响，每个国家都不同...
比亚迪开始攻克7纳米芯片和光刻机,超越ASML公司,有可能吗?
超越ASML公司是不大可能的，目前能够设计丶研发7纳米芯片的企业，有好多家，以比亚迪的技术能力，研发7纳米芯片，应该不成问题。至于说，比亚迪要研发光刻机，那就是说说而已，大家不必当真。我国曾经就高端光刻机的制造问题，请教过一位德国的工业专家。这位专家说，单从工业技术能力上看，我国要仿造出...
若华为早期就开始研究和生产光刻机,会不会比现在做手机更成功?_百度...
如果当时的数据没有出入，那应该是中国第一台分布式光刻机。与国外（1978年美国）的差距相比，时差应为7年。回到问题上来，如果成立于1987年的华为立即投入光刻机的研发，会不会在高端光刻机上留下自己的身影？毕竟，我们一直在追。80后应该还记得自己的童年。生活才刚刚开始，边远地区的温饱问题才刚刚...
我们国家有大批科研人员,为什么不能制造出光刻机?
从20世纪60年代初开始，中国就有半导体公司发明了芯片蚀刻技术，拉开了光刻机发展的序幕。随后，经过37年的发展，荷兰的阿斯麦尔寻求建立自己的光刻机产业链，然后垄断了整个全球市场。在这个产业链中，91%的关键部件来自国外而不是荷兰，而荷兰的阿斯麦尔在这个产业链中扮演着重要的角色，负责光刻机模块...
smee光刻机是哪里的?
smee光刻机是由同兴达公司制造的。2月1日，昆山同兴达成功举行了首台SMEE光刻机的搬入仪式。成立于2021年12月的昆山同兴达公司，主要从事半导体\/芯片先进封装测试相关的生产、销售和服务，是同兴达集团中最年轻的子公司，也是集团在新产业赛道上的重要布局。公司计划在今年的3月完成设备调试并开始样品试制，...
新兴区阿昔回答： 光刻机/紫外曝光机(Mask Aligner) 又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等.常用的光刻机是掩膜对准光刻,所以叫 Mask Alignment System.一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序.Photolithography(光刻) 意思是用光来制作一个图形(工艺);在硅片表面匀胶,然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时“复制”到硅片上的过程.
潮丽18538099444问： 光刻机怎么制作(最好提供图文)? - ？
新兴区阿昔回答： 第一步:制作光刻掩膜版(Mask Reticle) 芯片设计师将CPU的功能、结构设计图绘制完毕之后,就可将这张包含了CPU功能模块、电路系统等物理结构的“地图”绘制在“印刷母板”上,供批量生产了.这一步骤就是制作光刻掩膜版.光刻...
潮丽18538099444问： 光刻技术的原理是什么? - ？
新兴区阿昔回答： 光刻工艺是利用类似照相制版的原理,在半导体晶片表面的掩膜层上面刻蚀精细图形的表面加工技术.也就是使用可见光和紫外光线把电路图案投影“印刷”到覆有感光材料的硅晶片表面,再经过蚀刻工艺去除无用部分,所剩就是电路本身了....
潮丽18538099444问： 简述光刻的工艺过程(步骤) - ？
新兴区阿昔回答： 1. wafer 表面处理; 2. 旋涂光刻胶(包括抗反射层) 3. 前烘; 4. 曝光; 5. 后烘; 6. 显影,有的需要在显影前进行坚膜; 7. 刻蚀
潮丽18538099444问： 光刻机和刻蚀机的区别 - ？
新兴区阿昔回答： 刻蚀相对光刻要容易.光刻机把图案印上去,然后刻蚀机根据印上去的图案刻蚀掉有图案(或者没有图案)的部分,留下剩余的部分.“光刻”是指在涂满光刻胶的晶圆(或者叫硅片)上盖上事先做好的光刻板,然后用紫外线隔着光刻板对晶...
潮丽18538099444问： 光刻曝光技术的主要流程及每个步骤的意义 - ？
新兴区阿昔回答： 光刻工艺主要步骤 1. 基片前处理 为确保光刻胶能和晶圆表面很好粘贴,形成平滑且结合得很好的膜,必须进行表面准备,保持表面干燥且干净,2. 涂光刻胶 涂胶的目标是在晶圆表面建立薄的、均匀的,并且没有缺陷的光刻胶膜.3. 前烘(软...
潮丽18538099444问： 光刻机是怎样将电路刻在硅晶上的 - ？
新兴区阿昔回答： 不用模板 用的是紫外线刻蚀 “光刻”是指在涂满光刻胶的晶圆(或者叫硅片)上盖上事先做好的光刻板,然后用紫外线隔着光刻板对晶圆进行一定时间的照射.原理就是利用紫外线使部分光刻胶变质,易于腐蚀.“刻蚀”是光刻后,用腐蚀液将变质的那部分光刻胶腐蚀掉(正胶),晶圆表面就显出半导体器件及其连接的图形.然后用另一种腐蚀液对晶圆腐蚀,形成半导体器件及其电路.
潮丽18538099444问： 光刻机中国能造吗?？
新兴区阿昔回答： 暂时不能光刻机不是一项单一的技术,而是现代各项高科技技术的集成,成品背后需要无数的产业链支持,以中国现在的科技水平暂时还不能造出.当中国专家去荷兰阿斯...
潮丽18538099444问： 缩小半导体工艺尺寸能走多远? - ？
新兴区阿昔回答： 特约撰稿 莫大康 推动半导体业进步有两个轮子,一个是工艺尺寸缩小,另一个是硅片直径增大,而且总是尺寸缩小为先.由半导体工艺路线图看,2013年应该进入14纳米节点,观察近期的报道,似乎已无异议,而且仍是英特尔挑起大梁.尽管...
