溅射机晶振片速率太快导致颜色报废怎么么改善？
如果在溅射过程中使用晶振片测得的速率太快，导致最终的膜层颜色不符合要求，是因为膜层沉积得太厚或太薄，影响了光学特性。尝试以下几个方法：
调整功率和时间：减少溅射源的功率或缩短溅射时间。这样可以减慢沉积速率，更精确地控制膜层的厚度。
优化晶振片位置：确保晶振片放在代表性位置，这样才能更准确地反映整个靶材表面的沉积速率。
校准设备：定期校准晶振片和其他测量设备，确保读数准确。
改变靶材距离：调整靶材和基板之间的距离，这会影响溅射粒子的能量和分布，进而影响沉积速率。
控制溅射气氛：调整工作气体的压力和成分，这也会影响沉积速率。
最后，实验和经验很重要。每次调整后都要记录结果，不断优化过程。记住，溅射是个复杂的过程，需要耐心和细心来调整和控制。
哪里能找到关于TD-SCDMA基站相关的详细资料
锁相环允许用户在片外使用频率较低的晶振,可以很大地减小板级噪声;而且,由于时钟频率可由程序控制,系统时钟可以在一个很宽的范围内调整,总线频率往往能升得很高。但是,使用锁相环也会带来额外的功率消耗。 单就时钟方案来讲,使用外部晶振且不使用锁相环是功率消耗最小的一种。2 应用软件方面的考虑 之所以使用“...
关于单片机的种类问题
PIC 8位单片机具有指令少、执行速度快等优点,其主要原因是PIC系列单片机在结构上与其它单片机不同。该系列单片机引入了原用于小型计算机的双总线和两级指令流水结构。这种结构与一般采用CISC(复杂指令集计算机)的单片机在结构上是有不同的。双总线结构具有CISC结构的单片机均在同一存储空间取指令和数据,片内只有一种总线...
真空镀膜和光学镀膜有什么区别
为各种应用需要，利用高反射膜制造偏振反光膜、彩色分光膜、冷光膜和干涉滤光片等。光学零件表面镀膜后，光在膜层层上多次反射和透射，形成多光束干涉，控制膜层的折射率和厚度，可以得到不同的强度分布，这是干涉镀膜的基本原理。三、方法和材料的区别 1、真空镀膜的方法材料：(1)真空蒸镀：将需镀膜的...
关于U盘。
Prayaya V3可以给您的生活、工作、娱乐带来极大的方便;另一方面,由于移动存储设备数据传输速度的的差异性很大(有些比本机硬盘还快,有些劣质次品,可能不到本机硬盘速度的10%),所以有些时候,不要指望它们在外部移动存储设备上像安装在本机硬盘上运行那么快,因此我们也建议大家将其安装本机硬盘和高速的外部存储设备上...
什么是晶振频率?
如果反馈信号的频率与系统的自然频率相同。3、参数变化和能量供应：系统的参数变化也可能导致振荡现象。例如，电路中的电阻、电容、电感等元件的参数变化，或者化学反应中的反应速率变化等，都可能导致系统失去稳定性，从而产生振荡。一些系统需要外部能量供应才能维持稳定状态。能量供应不足或者不稳定。
晶振坏了不知道频率怎么办
如果晶振坏了而且您不知道其频率，您可以尝试以下方法来确定它的频率：1. 查找规格书或文档：如果您有晶振的规格书或技术文档，可以在其中找到频率信息。这些文件通常包含晶振的型号、规格和参数。2. 咨询供应商或制造商：联系晶振的供应商或制造商，并提供晶振的型号或相关详细信息。他们可以为您提供关于...
ADC0809的时钟频率怎么得来?可以用软件定时得来吗?能否直接用单片机的...
可以工作。另一种编程也是可以的，但是此时的CLK要接在P1.X口。这个可以通过编程让定时\/计数器定时多少US或者是MS（根据用户要求的ADC0809转换速率来确定），定时计数到0后给一个脉冲通过P1.x输出，建议用电路实现吧，虽然编程也不是很难，可是编程写得太多，总不是件好事 ...
真空镀膜时如何控制膜层的厚度
时间-功率控制 根据 厚度=时间×速率,改变功率以保证V接近常数,再通过时间来控制厚度.石英晶体监控 监测晶振片的振动频率 根据厚度与频率的变化关系,计算当前厚度来控制 光学监控 直接测量膜系的光学特性R\/T 目测 肉眼观测反射颜色来控制膜层厚度,误差太大 ...
三脚晶振与两脚晶振的结构区别
在每个电极上各焊一根引线接到管脚上，再加上封装外壳。石英晶体振荡器又名石英谐振器（晶振），是利用具有压电效应的石英晶体片制成的。石英晶体薄片受到外加交变电场的作用时会产生机械振动，当交变电场的频率与石英晶体的固有频率相同时，振动便变得很强烈，这就是晶体谐振特性的反应。
ADC0809的时钟频率怎么得来?可以用软件定时得来吗?能否直接用单片机的...
这个可以通过编程让定时\/计数器定时多少US或者是MS(根据用户要求的ADC0809转换速率来确定),定时计数到0后给一个脉冲通过P1.x输出,建议用电路实现吧,虽然编程也不是很难,可是编程写得太多,总不是件好事 本回答由提问者推荐 举报| 答案纠错 | 评论(3) 28 5 497435456 采纳率:27% 擅长: 汇编语言 工程技术...
宗圣高十一： 沉积速率是指从靶材上溅射出来的材料,在单位时间内沉积到基片上的膜层厚度,该速率与溅射率成正比.有下列关系式:qt=CIh 式中: qt—表示沉积速率; C—表征溅射装置特性的常数; I—表示离子流; h—表示溅射速率.由此式可见,...
君山区19558756945： 溅射工艺中,离子能量越高,溅射速率越大吗 - ？
宗圣高十一： 如果离子能量太高,可能渗透进入靶材料的内部,没能撞击出靶原子,反而造成溅射速率的下降.
君山区19558756945： 如何减小小片玻璃的镜框效应 - ？
宗圣高十一： ＂镜框＂效应是一个通常用于描述因膜层厚度差异而导致靠近玻璃边部位置颜色产生色差的术语.在某些情况下,这种膜层厚度的差异会导致最大的不均匀性.在高沉积速率反应溅射工艺下,由于玻璃基片和沉积源之间的相互作用,膜层厚度会相对地突然变化.通过修改工艺条件和调整设备参数可以降低这种相互作用,减小镜框效应.本文论证了几种沉积条件对产生这种效应的影响结果,并阐述了用控制工艺气体流动来减轻小片玻璃镜框效应的有效方法.
君山区19558756945： 真空镀膜蒸发溅射 - ？
宗圣高十一： 如此看来你的溅镀机上是没有实时监控膜厚系统,那没有太好的办法,只能通过溅镀一定厚度后测量,根据镀膜时间推算溅镀速率.不过要注意的是可能你做的厚度不一样最后测出来的速率是有一些偏差的,比如你镀50nm,和镀100nm,可能...
君山区19558756945： 什么是真空镀膜技术? - ？
宗圣高十一： 所谓真空镀膜就是置待镀材料和被镀基板于真空室内,采用一定方法加热待镀材料,使之蒸发或升华,并飞行溅射到被镀基板表面凝聚成膜的工艺. 一、镀膜的方法及分类 在真空条件下成膜有很多优点:可减少蒸发材料的原子、分子在飞向基...
君山区19558756945： 以玻璃片为基片进行电阻蒸发镀铜膜的最佳条件是什么 - ？
宗圣高十一： 哥们,问题不是这样问的. 你得改改: 1,玻璃基片,腔体1.1米,阻蒸镀膜,不考虑镀膜速率,想得到均匀稳定表面外观良好的膜,建议如何确定条件? 答:因设备不同,需要调整阻蒸电流由小到大,使用晶振片进行速率监控的话,建议当铜速率达到1~2nm/s时条件固定下来,如果外观不好,可以适当通入惰性气体保护. 2,论文啥的,就别看了,写论文的很少实操,真有技术含量的,你去知网花钱看. 3,磁控溅射镀铜膜,出现针孔的几率非常高,最优条件因设备不同而不同,需要不断摸索,但是厚度要高于200nm.
君山区19558756945： 急!急...磁控溅射镀膜机的工作原理,有谁知道啊? - ？
宗圣高十一： 磁控溅射原理:电子在电场的作用下加速飞向基片的过程中与氩原子发生碰撞,电离出大量的氩离子和电子,电子飞向基片.氩离子在电场的作用下加速轰击靶材,溅射出大量的靶材原子,呈中性的靶原子(或分子)沉积在基片上成膜.二次电...
君山区19558756945： 真空镀膜中蓝色、紫色、红色的化学成分 - ？
宗圣高十一： 真空镀膜过程非常复杂,由于镀膜原理的不同分为很多种类,仅仅因为都需要高真空度而拥有统一名称.所以对于不同原理的真空镀膜,影响均匀性的因素也不尽相同. 并且均匀性这个概念本身也会随着镀膜尺度和薄膜成分而有着不同的意义....
君山区19558756945： 5、以砂浴加热,在干馏器上部收集冷凝的液状物,是下列哪种药物的炮...？
宗圣高十一： 离子束刻蚀分为物理离子束刻蚀和反应离子束刻蚀.(Ga 原子量69.72),当高能束轰击样品时,动量会传递给样品中的原子或者分子,产生溅射效应.选择合适的离子束流,可以对不同材料的样品实施告诉微区刻蚀.利用聚焦离子束可以对纳米级材料如,氧化锌纳米带进行加工,可以在光纤上刻蚀周期结构图案. 如将一些卤化物气体直接导向样品表面,在离子束轰击下,可以实现增强刻蚀:高能离子束将气体等离子化-活化, 这些基团与样品物质发生化学反应后的物质是易挥发性的,当脱离样品表面时,就被真空抽走了.反应离子刻蚀技术在刻蚀速率,材料的选择性,深孔测壁的垂直性商,都比物理离子束刻蚀有大幅度提高. 希望对你有帮助.
