我国的光刻机5纳米生产技术要多久才能突破？
月初一条“中科院5nm激光光刻技术突破”的新闻火了，在很多无良自媒体的口中这则新闻完全变了味，给人的感觉像是中国不久将会拥有自己的5nm光刻机，其实真实情况完全不是一回事。下面我们就来谈谈这则新闻真实的内容到底是什么，以及中国光刻机5nm生产技术还要多久才能取得突破。
中科院5nm的光刻技术和光刻机关系不大其实“中科院5nm激光光刻技术突破”的新闻来源是在中科院网站上的一篇论文，文章的主要内容其实是讲微纳加工领域里的一个进展，中心思想是超高精度的无掩模的激光直接刻写。由于文章中采用了一个叫“lighography”的词，这个直接翻译过来就是光刻的意思。再加上5nm这个数值，很容易让人联想到的是中科院在5nm的光刻机上取得突破。由于一些自媒体翻译错误以及想要煽动公众情绪获取大量的流量，于是这个错误的新闻就得到了大量的传播转发，进而误导了不少关心中国光刻机发展的朋友。
论文和完全商用是两码事其实就算论文讲的真是在光刻机领域取得的突破，但是想要完全商用并不容易。前段时间“碳基芯片”这个概念也上了一阵子热搜，碳基芯片具有成本更低、功耗更小、效率更高等优点，并且在未来可能用于我们的手机或者电脑的芯片方面。为什么热度没有能够持续下去？最主要的原因还是因为它的商用遥遥无期。碳基芯片现在还是停留在实验室阶段，想要完全商用最起码要二十年以上，这就注定了它和现在主流的硅基芯片没有任何的竞争力。同理就算中科院的论文讲的是5nm光刻机技术，想要完全实现商用不知道还要多久。
中国和荷兰ASML的差距最起码也在十年以上现在国内最好的光刻机生产企业应该是上海微电子，目前生产的最好光刻机也只是90nm的制程。尽管有传言说上海微电子明年将会推出28nm的全新光刻机，但是和ASML的EUV光刻机精度依旧相差甚远。中国想要生产5nm的光刻机有一个最大的难点，就是自主研发。这不光意味着我们需要跨越从28nm到5nm这个巨大的障碍，并且在突破的过程中最好不要使用其他国家的专利，只能发展出一条属于自己的光刻机道路。需要达成这么多的条件，研发的难度可想而知。总的来说短时间内我国的光刻机技术取得重大突破的概率为0，还是要被人牵着鼻子走。落后就要被挨打卡脖子在任何时候都是真理，只希望我们国家的科研人员能够迎头赶上，尽快取得突破吧。
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要制造一部光刻机，最核心的部件就是镜头和激光光源，而现在中国在这两项技术上还非常的落后。现在全球能够生产5nm及以上光刻机的厂家只有一个，就是荷兰的ASML，而其中最根本的原因就是光源。现在，ASML是全球唯一一家掌握了极紫外光源技术的公司，要想突破7nm的这个技术瓶颈，就必须使用极紫外光源。最近，中芯国际就向ASML成功订购了一台光刻机，可以生产出7nm的芯片，但是，这台光刻机都不是EUV光源的，使用的是浸润ArF技术，也就是说7nm已经是这台光刻机的极限了。
为什么中芯国际不去买EUV的光刻机呢？因为，最早极紫外光源的研究是多个国家参与的，包括了欧洲多国还有日本、韩国。而其中出力最多的就是美国。可以说，EUV光刻机的专利中，美国拥有的数量不在少数。这也是为什么中国没能得到EUV光刻机的根本原因。
而现在，中科院光电所算是国内对光源研究最领先的科研所了，但是，中科院光电所的技术还是在365nm的水平，也就是i-line阶段，实验室能够做出的芯片最高水平也只是在22nm。还有很多技术瓶颈需要突破，这些都没有什么捷径可走。
当然，除了光源，下一个门槛就是镜头了在镜头上，现在ASML的EUV光刻机使用的是德国蔡司的镜头，其次能够排得上号的就是佳能和尼康了。而中国的镜头在高端市场上基本是没有影子，中国想要在这个领域有所突破，那也不是一时半会儿就能够见到成效的。当然，鉴于中国的德国现在定没有什么矛盾，所以镜头技术的使用应该不会是个大问题，所以，我们勉强认为镜头上就不需要花精力去研究了吧。
20年前，EUV光刻机的地位就已经很明确了，谁有了EUV光刻机的技术，谁就有了芯片领域的未来。美国作为最早的研发者，自然是加大投入跟进。而欧洲由于自己在半导体领域的逐渐衰弱，也是把EUV光刻机作为了自己崛起的赌注。韩国和日本当然也不甘落后，疯狂的跟进。
美国由于对EUV技术的研发时间最长，有一定底蕴，总共投入了50多个高校和科技企业进入到这个领域，当然，最终在EUV光刻机领域，美国的收益也是最大的。而欧洲对于EUV是最看重的，35个国家共110多个高校和企业加入到研究的行列中。日本算是其中研究最不上心的，也是EUV研究的国家中最终受益较小的，连韩国都不如。
几十个国家，上百所研究单位，花费了20多年的时间，才有了今天的EUV光刻机，也有了5nm制程的芯片。说中国花费10年的时间做出5nm的光刻机，应该不为过。ASML就曾经说过，即使他们公开EUV光刻机的图纸，现在也没有哪家公司能够山寨，因为EUV的技术研发的难度非常之大，不是说谁都能够山寨的。
我国芯片制造技术受限于国外技术封锁，现在最多能做到十四纳米，相对于五纳米还有很远的距离，所以五纳米的生产技术最少也得十年左右才可能取得突破
我国芯片制造技术受限于国外技术封锁，现在最多能做到十四纳米，相对于五纳米还有很远的距离，所以五纳米的生产技术最少也得十年左右才可能取得突破。
大概需要5年的技术发展。光刻机的制作是非常困难的，凭借科学技术的发展大概需要5年。
五纳米芯片不需要光刻机是真的吗
五纳米芯片不需要光刻机是真的。佳能公司宣布通过NIL纳米压印技术，将在2025年实现制造5nm芯片而不需要EUV光刻机的使用。NIL纳米压印技术类似于印刷技术，通过将电路图案刻录到专用的"章子"上，然后将"章子"压印到硅晶圆上，从而实现芯片的制造。然而，NIL纳米压印技术的难点在于如何将精细的电路图案刻录到...
世界光刻机现在多少纳米
5纳米。根据查询光明网显示，截止时间2023年10月2日，世界光刻机釆用finfet工艺，能做到5nm以下。光刻机又叫掩模对准曝光机、曝光系统、光刻系统等，是制造芯片的核心装备。
5纳米光刻机什么意思
1. 光刻机是一种关键的芯片制造设备，用于在硅片上进行光刻工艺，这是芯片生产过程中的核心步骤。2. 5纳米制程技术指的是光刻机能够在硅片上创建的最小特征尺寸，这意味着可以制造出5纳米级别的芯片。3. 这类高精度的光刻机能够生产出晶体管尺寸更小的芯片，晶体管之间的距离越短，芯片的性能通常越...
我国已研发出5nm光刻技术,该技术能否真正投入生产使用?
另外还有一点就是媒体错误理解了一个概念，那就是中科院突破的5nm狭缝电极并不是芯片制造的都所有技术，这是一天很漫长的道路，而且激光光刻机用于工业上面也不合适，只适合用来做实验。打个比方把芯片当成一个图片还看待的话，那么euv的光刻机是可以一次拍照成型，可是激光光刻机复杂程度就高了许多，还...
能造5nm芯片的euv光刻机,三大核心技术
1. 概述 EUV（Extreme Ultra Violet）光刻技术是目前半导体生产中最重要的先进制造技术之一。它是一项先进的制造技术，可以将微型和纳米电子元件的大小减小到5纳米。当今市场上许多领先的半导体公司，如Intel和TSMC，已经开始将EUV纳入其生产流程。2. EUV光刻机的核心技术 EUV光刻机主要由三个部分组成：...
光刻机是什么?目前我国光刻机的加工精度是多少?
一台顶级的光刻机需要各种顶级的零件支持，而这些零件大部分都来自西方的国家。而这些基本上都是禁止对我们国家出口，因此我国光刻机技术受到限制。前段事件美国制裁华为，不允许世界上任何一个国家给华为提供技术，华为虽然可以设计芯片，但是设计芯片的高端软件还主要依赖于海外。我们中国现如今可以量产的光...
2000万一台,这才是国之重器,台积电5nm的必需设备,什么情况?
现在中国微电子5nm刻蚀机已开始成为台积电5nm的生产线提供设备支持，这意味着家用半导体设备正在不断改进，而台积电的认可足以证明ChinaMicro半导体的实力，现在刻蚀机取得了重大进展，国产光刻机会远远落后吗？相信在许多国内公司的努力下，这两个国之重器将在未来达到新的高度。
中国目前光刻机处于怎样的水平?你知道吗?
在光刻机的工艺能力方面，中国目前最先进的光刻机系列为600系列，能够支持最高90纳米的工艺制作。这一水平虽然与ASML的先进EUV光刻机所能达到的5纳米工艺相比较远，但中国正在努力缩小这一差距。据悉，中国即将交付第一台28纳米工艺的国产沉浸式光刻机，这标志着中国在这一领域的进一步突破。然而，中国...
中国目前光刻机处于怎样的水平?你知道吗?
但是反观中国目前的光刻机仍不能达到制作高端芯片的要求，技术还很落后。一、如今国内光刻机能达到多少纳米的工艺制作？查询官网可以知道，如今最先进的光刻机是600系列，光刻机最高的制作工艺可以达到90纳米。但是相比于荷兰ASML公司旗下的EUV光刻机，最高可以达到5纳米的工艺制作。而且即将推出3纳米工艺...
世界十大光刻机大国?
世界没有十大光刻机国，现在全世界能够生产光科技的国家只有三个！分别是荷兰，日本和中国，能够生产最顶尖的5纳米euv光刻机的只有荷兰阿斯麦一家！另外日本的尼康和佳能，还有中国的上海微电子厂，能够生产最好的光刻机，也就是只能达到28纳米！
冻关博士： 5奈米制程在实验室可以说完成了,但量产和商业运营还在努力中;
海陵区17339567144： 以中国现在的科技实力,造出像高通那样的商业化芯片需要多久?？
冻关博士： 设计是可以设计的出,比如华为海思就已经设计出来了,但是生产方面无法搞定,你就是让高通来他们也是找人代工的.而且这个不是有时间就能解决的问题,制造高制程芯片的高端光刻机是对中国禁售的,所以根本无法生产.如果要从头研发光刻机,那花费的时间得10年起了.更何况如果以其他厂商现有产品为竞争对象研发,等你的光刻机研发出来,那已经是过时很久的光刻机了.
海陵区17339567144： 中国半导体工艺多久能达到5纳米 - ？
冻关博士： 无期
海陵区17339567144： 光刻机中国能造吗?？
冻关博士： 暂时不能光刻机不是一项单一的技术,而是现代各项高科技技术的集成,成品背后需要无数的产业链支持,以中国现在的科技水平暂时还不能造出.当中国专家去荷兰阿斯...
海陵区17339567144： 中国最先进手机芯片为几纳米?？
冻关博士： 目前中国最先进的手机芯片为5纳米(截至2021年),是华为的麒麟9000 5G SoC芯片.其次就是紫光展锐推出的唐古拉T770芯片,该芯片定位中低端手机市场,基于6nm...
海陵区17339567144： 现在中国最先进芯片工艺是多少纳米 - ？
冻关博士： 中企最高技术28纳米,而且还是中芯挖的台干带来的技术芯片工艺最重要的机器是光刻机,目前被欧洲垄断.欧洲有条约禁止向社会主义国家出口类似光刻机的高科技设备
海陵区17339567144： 台式电脑cpu是做什么的 - 台式电脑cpu有什么用呢 ？
冻关博士： 1. 台式电脑cpu有什么用呢1、CPU:主要由运算器、控制器、寄存器三部分组成,... 8700K都是六核心十二线程的台式电脑的CPU,制作工艺为14纳米.2、i5 8600K、...
海陵区17339567144： 为什么芯片5nm是极限 - ？
冻关博士： 因为 目前的芯片工作的模式还是经典逻辑电路.当制程小于5nm, 量子效应占主导地位.譬如量子遂穿,测不准,纠缠,经典逻辑就工作不了了由热心网友提供的答案2:纳米是长度的单位之一 纳米和国际单位制中的长度单位米的换算关系 ...
海陵区17339567144： 纳米技术的研究对象一般在1纳米到100纳米之间 ？
冻关博士： 1、纳米技术(纳米科技nanotechnology) 纳米技术其实就是一种用单个原子.分子制造物质的技术. 从迄今为止的研究状况看.关于纳米技术分为三种概念.第一种.是1986年...
海陵区17339567144： 5nm和7nm,哪个才是现有半导体工艺的物理极限 - ？
冻关博士： 半导体技术,可以分成设计和工艺两大部分.作为学了7年的专业,我觉得中国就是个能吹牛的国家... 设计技术不想说,民用平均差距在20年.华为、海思什么虽然在通讯领域崛起,赶超思科,但是其他领域如PC等,不仅是IP的积累、经验积累,都大幅.
