离子束溅射镀膜设备的优缺点是什么? 更适合做什么薄膜材料?
一、离子束溅射的优点
1、溅射镀膜是依靠动量交换作用使固体材料的原子、分子进入气相，溅射出的平均能量10eV，高于真空蒸发粒子的100倍左右，沉积在基体表面上之后，尚有足够的动能在基体表面上迁移，因而薄膜质量较好，与基体结合牢固。
2、任何材料都能溅射镀膜，材料溅射特性差别较其蒸发特性差别小，即使是高熔点材料也能进行溅射，对于合金、靶材化合物材料易制成与靶材组分比例相同的薄膜，因而溅射镀膜的应用非常广泛。
3、溅射镀膜中的入射离子一般利用气体放电法得到，因而其工作压力在10-2Pa~10Pa范围，所以溅射离子在飞到基体之前往往已与真空室内的气体分子发生过碰撞，其运动方向随机偏离原来的方向，而且溅射一般是从较大靶表面积中射出的，因而比真空镀膜得到均匀厚度的膜层，对于具有勾槽、台阶等镀件，能将阴极效应造成膜厚差别减小到可以忽略的程度。但是，较高压力下溅射会使膜中含有较多的气体分子。
4、可以使离子束精确聚焦和扫描，在保持离子束特性不变的情况下，可以变换靶材和基片材料，并且可以独立控制离子束能量和电流。由于可以精确地控制离子束的能量、束流大小与束流方向，而且溅射出的原子可以不经过碰撞过程而直接沉积薄膜，因而离子束溅射方法很适合于作为一种薄膜沉积的研究手段。
4.离子束溅射的缺点
离子束溅射的主要缺点就是轰击到的靶面积太小，沉积速率一般较低。而且，离子束溅射沉积也不适宜沉积厚度均匀的大面积的薄膜。并且溅射装置过于复杂，设备运行成本较高。
一般磁控溅射方法制备绝缘材料的薄膜有两种方法：PVD（物理气象沉积）、CVD（化学气象沉积）。 物理气象沉积，用陶瓷靶（绝缘靶）溅射，缺点是溅射速率慢，溅射功率高，靶材容易破裂。 化学气象沉积，用活泼金属靶（Al），在溅射过程中充入适量。
优点：1、靶材粒子能量高（比热蒸发高出1个数量级），所制备膜层更致密，与基板结合力更高；2、一般备有辅助离子源，可以用来清洗基板，清洗效果好；
3、易于制备熔点高的材料；
4、制备合金膜层，可以保证膜层材料比例与靶材相同；
5、由于装有中和器，也可以用来制备绝缘膜层；
缺点：1、一般镀膜速率较慢，几十埃每秒；
2、离子源清理和中和器灯丝更换较频繁；
3、不适宜制备较大面积薄膜；
除有机材料和易分解的材料，一般都可以用离子束溅射镀膜，氧化物膜层的制备需要辅助通氧。
镀膜速率慢，装片数少。设备成本很高。
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磁控溅射膜 是什么意思 另外 是不是 金属膜都是采用磁控溅射技术的
3、简单的说，磁控溅射隔热的生产工艺就是在真空的环境里采用电离子有序轰击镍、银、钛、金、铟、铜、铝等贵金属耙材，并采用磁场控制的方式让金属离子均匀的溅射到光学级的PET基材上，沉积成金属镀膜层。4、隔热原理：磁控溅射隔热膜属于反射型隔热膜。它是将镍、银等金属的分子通过溅射的方法涂布在...
真空度对真空镀膜的影响?
以真空技术为基础，利用物理或化学方法，并吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射频和磁控等一系列新技术，为科学研究和实际生产提供薄膜制备的一种新工艺。简单地说，在真空中把金属、合金或化合物进行蒸发或溅射，使其在被涂覆的物体（称基板、基片或基体）上凝固并沉积的方法即为真空镀膜。
倪管罗兰： 优点:1、靶材粒子能量高(比热蒸发高出1个数量级),所制备膜层更致密,与基板结合力更高; 2、一般备有辅助离子源,可以用来清洗基板,清洗效果好; 3、易于制备熔点高的材料; 4、制备合金膜层,可以保证膜层材料比例与靶材相同; 5、由于装有中和器,也可以用来制备绝缘膜层;缺点:1、一般镀膜速率较慢,几十埃每秒; 2、离子源清理和中和器灯丝更换较频繁; 3、不适宜制备较大面积薄膜;除有机材料和易分解的材料,一般都可以用离子束溅射镀膜,氧化物膜层的制备需要辅助通氧.
长子县17686951821： 蒸发镀膜和溅射镀膜各有什么优点? - ？
倪管罗兰： 蒸发镀膜和溅射镀膜是两种常用的物理气相沉积技术,它们各自具有以下优点:蒸发镀膜的优点:1. 镀膜速度快,可以在短时间内得到较厚的膜层;2. 沉积物理性能好,如抗腐蚀性、耐磨性等;3. 可以用于各种不同材料的蒸发,包括高熔点金属和陶瓷材料;4. 易于控制成膜厚度和均匀性;5. 适合制备大面积均匀薄膜.溅射镀膜的优点:1. 可以在低温下制备高质量的薄膜;2. 可以控制成膜组分,可以制备复杂组分的合金薄膜;3. 可以在惰性气体保护下进行镀膜,可以避免杂质污染;4. 可以制备多层和复合膜,可以调节和优化膜层性质;5. 可以制备高分子材料等非晶态材料的薄膜.
长子县17686951821： 您好,我是一个新手,请问一下溅射镀膜和蒸发镀膜有什么区别. - ？
倪管罗兰： 真空镀膜中常用的方法有真空蒸发和离子溅射.真空蒸发镀膜是在真空度不低于10-2Pa的环境中,用电阻加热或电子束和激光轰击等方法把要蒸发的材料加热到一...
长子县17686951821： 溅射镀膜与真空镀膜的缺陷 - ？
倪管罗兰： 你想知道真空镀膜的缺陷还是真空溅射镀膜的缺陷啊,真空镀膜可是包括真空溅射镀膜的
长子县17686951821： 与真空镀膜相比?与真空镀膜相比,离子镀膜有哪些优点 ？
倪管罗兰： 1)能溅射清洗表面并直到膜层开始形成时保持其“清洁”,(2)供给基底表面的高能流能在其表面不用加热体
长子县17686951821： 蒸发镀膜哪些工艺比较好? - ？
倪管罗兰： 光学玻璃的镀膜生产工艺有:溶胶-凝胶镀膜、反应蒸发镀膜、真空阴极磁控溅射镀膜等工艺方法 . 几种工艺比较: a)溅射镀膜与蒸发镀膜相比,有许多优点,如任何 物质均可以溅射,尤其是高熔点,低蒸气压元素和化合物;溅射膜与基板之...
长子县17686951821： 电子束加工,离子束加工和激光加工相比,各有什么优缺点 - ？
倪管罗兰： 三者都适用于精密、微细加工,但电子束、离子束需在真空中进行,因此加工表面不会被氧化、污染,特别适合于“清洁”、“洁净”加工.离子束主要用于精微“表面工程”,激光因可在空气中加工,不受空间结构的限制,故也适用于大型工件的切割、热处理等工艺.
长子县17686951821： 阴极溅射的主要特点 有哪些? - ？
倪管罗兰： (1)一个粒子轰击阴极表面可溅射出的原子数,称为溅射系数.(2)阴极电位降和轰击粒子的质量越大,阴极溅射越激烈.(3)在其它条件一定时,气压越小溅射越严重,当气压大时,由于溅出的粒子易与周围高密度的气体碰撞而返回表面,因而溅出量减少.(4)阴极金属的化学特性对溅射率有显著的影响.(5)用溅射效应可除去阴极金属的污物、氧化物或钝化膜,使表面净化和活化,因而有利于粒子的吸附和渗入.( 6)溅射出的活性原子易于吸收气体或与气体反应生成某种化合物如TixN,CrxN,TIC,CrxCy等,这些化合物沉积到某种表面上也可用于表面改性.
长子县17686951821： 蒸发镀膜与溅射镀膜相比,缺点有那些 - ？
倪管罗兰： 蒸发镀的颜色一般是镀完后喷油喷上去的,而且集合力不好,适合做塑料,玻璃等产品 溅射镀膜主要做五金类的多,颜色多,硬度高,耐磨好
长子县17686951821： 真空电镀离子溅射原理是什么 - ？
倪管罗兰： 主要利用辉光放电(glow discharge)将氩气(Ar)离子撞击靶材(target)表面, 靶材的原子被弹出而堆积在基板表面形成薄膜.溅镀薄膜的性质、均匀度都比蒸镀薄膜来的好,但是镀膜速度却比蒸镀慢很多.新型的溅镀设备几乎都使用强力...
