什么是真空多弧离子镀膜机偏压电源的工作原理

作者&投稿:淡冯 (若有异议请与网页底部的电邮联系)
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揭示真空多弧离子镀膜机偏压电源的工作奥秘


离子镀膜,一个精密的工艺过程,其核心是离子溅射镀膜。对于导电靶,偏压电源扮演了关键角色,采用直流电场的精密调控,确保阴极表面的电子被高效加速,进而轰击气体分子,引发电离现象。这个过程中,电子被电场驱动,形成雪崩效应,直至气体被击穿,形成稳定的电离电流,进而驱动离子加速,撞击靶材,将原子释放并沉积在样品表面,形成所需涂层。


偏压电源,就像荧光灯中的核心组件,它通过高频转换电路,以单极性脉冲方式输出。电源电压的精细调整通过改变高频转换电路的输入电压实现,稳压性能高达1%。这种设计允许在保证工艺所需电压的同时,通过调整脉冲宽度来精确控制工件的加热效果,适用于各种涂层需求,从工具保护到装饰美化。


在简易隔离式偏压电源设计中,非对称半桥反激电路是关键。它通过同步降压电路提供隔离电源,类似于同步降压调节器的工作原理。输入电压驱动的场效应管(FET)驱动电感电容滤波器,随后通过分压器和误差放大器的协同作用,调整滤波器输出,保持DC电压稳定。特别之处在于,电感电路中的耦合绕组和二极管设计巧妙地解决了负载电压调节的难题,通过二极管的直流电压调整,提升了负载调节的精度。如果采用场效应管替代,性能将进一步提升。


总结起来,真空多弧离子镀膜机的偏压电源是一个精密调控的系统,它通过复杂的电路设计,确保了离子的高效加速和沉积过程,从而实现高质量的涂层工艺。无论是直流还是脉冲电源,每一环节都对最终的镀膜效果有着至关重要的影响。




多弧离子镀技术与应用        目录       _百...
多弧离子镀技术是一种先进的真空镀膜技术,其沉积原理与独特的技术特点使其在多个领域得到了广泛应用。首先,让我们来探讨一下多弧离子镀的基本原理与特性。1.1 真空镀膜技术概述,它是一种通过控制真空环境,将金属或非金属材料以离子形式沉积在基材表面的技术。而多弧离子镀则在此基础上,利用多个弧源...

多弧离子镀的原理
多弧离子镀采用的是弧光放电,而并不是传统离子镀的辉光放电进行沉积。简单的说,多弧离子镀的原理就是把阴极靶作为蒸发源,通过靶与阳极壳体之间的弧光放电,使靶材蒸发,从而在空间中形成等离子体,对基体进行沉积。

常见的离子镀技术
多弧离子镀则是利用真空弧光放电,阴极表面形成无数微小弧光点,因此得名。这项技术可生成均匀的化合物膜,具有广泛的实用价值。其特点在于无需熔池,多个弧源可灵活布置,结构简单,弧源既是蒸发源又是离子源。离化率高,沉积速率快,且能生产高质量的膜层。尤其在高速钢刀具和不锈钢板表面TiN镀层应用...

离子镀膜法的目的
多弧离子镀作为物理气相沉积技术的一个分支,是在真空蒸镀和真空溅射的基础上发展起来的一门新型涂层制备技术,也称为真空弧光蒸镀法,它把真空电弧放电用于电弧蒸发源。由于多弧离子镀技术具有沉积速率高、涂层附着力好、涂层致密、操作方便等特点,因此在材料表面改性领域得到了广泛应用。1963年Mattox提出...

离子镀的简介
离子镀(ion plating)离子镀在真空条件下,利用气体放电使气体或被蒸发物质部分电离,并在气体离子或被蒸发物质离子的轰击下,将蒸发物质或其反应物沉积在基片上的方法。其中包括磁控溅射离子镀、反应离子镀、空心阴极放电离子镀(空心阴极蒸镀法)、多弧离子镀(阴极电弧离子镀)等。

矢量科学丨十种真空镀膜技术
多弧离子镀(MAIP)采用电弧放电方法,直接蒸发金属靶材,蒸发物在空间中形成等离子体,对基体进行沉积。多弧离子镀与传统离子镀的区别在于采用弧光放电进行沉积。分子束外延(MBE)是一种在晶体基片上生长高质量薄膜的新技术。在超高真空条件下,分子束直接喷射到基片上,形成薄膜。MBE技术具有低衬底温度、慢...

多弧离子镀
在真空条件下,金属阴极和触发电极在10kv脉冲高压下,触发放电,在阴极表面形成产生金属等离子体的阴极斑点,放电产生的大量热量使阴极斑点处金属被局部蒸发,电离,形成高密度的金属等离子体

多弧离子镀的介绍
多弧离子镀是采用电弧放电的方法,在固体的阴极靶材上直接蒸发金属,蒸发物是从阴极弧光辉点放出的阴极物质的离子,从而在基材表面沉积成为薄膜的方法。

PVD多弧离子镀机器里面,色差与抽气口高度有什么关系?
在PVD多弧离子镀机内,色差与抽气口高度有直接关系。下面对其具体解释如下:1. 影响膜厚均匀性:PVD多弧离子镀机是利用电弧离子化材料,在真空环境下进行沉积形成膜。镀膜质量受到真空度的影响,而抽气口的高度会影响真空度的大小。如果抽气口的高度不合适,会导致真空过低或过高,从而产生膜厚不均匀、...

怎么改善铸造铝合金表面耐腐蚀性能的技术?
多弧离子镀是真空室中,利用气体放电或被蒸发物质部分离化,在气体离子或被蒸发物质粒子轰击作用的同时,将蒸发物或反应物沉积在基片上。离子镀把辉光放电现象、等离子体技术和真空蒸发三者有机结合起来,不仅能明显地改进了膜质量,而且还扩大了薄膜的应用范围。其优点是薄膜附着力强,绕射性好,膜材广泛等。离子镀种类很...

锡林浩特市18785872189: 真空多弧离子镀膜机偏压电源的工作原理? -
台哀伊迈: 离子镀膜其实是离子溅射镀膜, 对于导电靶材,使用直流偏压电源;非导电靶材,使用脉冲偏压电源. 你这个多弧离子镀膜机,可能还需要直流电弧电源或脉冲电弧电源偏压电源其实就是在阴极和样品所在位置的阳极之间形成偏压电场,一般是阴极加负高压.阴极表面的自由电子在电场作用下定向加速发射,发射电子轰击气体分子,使之电离,并且气体被驱出的电子被电场加速,继续电离其他气体分子,连续不断,形成雪崩效应,气体被击穿,形成恒定的电离电流.此时离子也被加速,轰击靶材,将靶材中的原子驱除出表面,并沉积在样品表面.电弧电源有点类似日光灯启辉器和镇流器,靠电弧加热电离气体形成等离子体,而不是电子加速撞击.

锡林浩特市18785872189: 真空多弧离子镀膜机偏压 -
台哀伊迈: 一个调节电压,一个调节百分比

锡林浩特市18785872189: 真空镀膜偏压选取 -
台哀伊迈: 应该这样理解,偏压高低决定的是轰击离子的能量大小,而占空比大小则决定轰击离子的数量,两者搭配使用并没有一个固定的公式,如果非要定性两者关系的话,我觉得用“两者相乘等于轰击效果”来形容会比较恰当些.换句话说,只要在膜层结合力要求的范围内,很多种参数包括高偏压低占空比或者低偏压高占空比,都是可以的. 我在五金手机壳镀膜时,试过多种参数,在膜层不厚的时候,都看不出差异来,试过用30的占空比有出现过掉膜,最后是选了个比较折中位置的参数,大概是100伏偏压,60的占空比.

锡林浩特市18785872189: 中频溅射中什么是偏压 -
台哀伊迈: 中频(磁控)溅射和偏压是两个不同的概念. 在磁控溅射离子镀之中,偏压是指施加在工件上的负电压,用来施加偏压的电源叫做偏压电源. 中频溅射是用来镀膜的,中频溅射靶的电源叫做中频电源. 如果还不清楚可以百度Hi我.

锡林浩特市18785872189: 发射结加正偏电压的加正偏电压是什么意思 -
台哀伊迈: 晶体管分为PNP和NPN型两种,如图所示.:其加正偏电压的含义是:无论是PNP型和NPN型晶体管,发射结的P区接电源“+”,N区接“—”,即P区的电位高于N区,这就是正偏,也就是发射结承受正向偏置电压,简称正偏电压.

锡林浩特市18785872189: 单极性脉冲偏压电源有什么作用? -
台哀伊迈: 使用直流电源,电子方向始终统一,会导致单一种类电荷堆积过高与控制源中和.也就是说用来提供动力的正负极被中和了.然后磁控溅射将不再继续.所以采用脉冲电源.真空镀膜简介 真空镀膜一种由物理方法产生薄膜材料的技术.在真空...

锡林浩特市18785872189: 真空镀膜机偏压正负线接反了会怎样 -
台哀伊迈: 那么加在等离子体上的加速电压就反了,溅射电源要它往工件上跑,而偏压要它反向跑,那么……

锡林浩特市18785872189: 镀膜机在蒸镀过程中偏压慢慢短路怎么回事 -
台哀伊迈: 镀的是金属类的膜层,还有就是可能灰尘类在腔室累积了,国产偏压电源一般输出阻抗相对偏小.根据我的经验这是三类主要问题吧.如果有其他朋友解决问题了,希望可以多多交流.谢谢!

锡林浩特市18785872189: 纳米真空手机镀膜机是怎么造的? -
台哀伊迈: 这个简单,一个小的真空腔体,一般是铝合金的,好点材质的铝合金如6061做就行,因为比较小,估计造假要几百块.然后一个小型真空泵,飞越的就行,那种0.5升抽速的就够,大约500快,然后买几个合适尺寸的阀门,控制真空.然后就是...

锡林浩特市18785872189: 真空多弧离子镀膜镀金色会掉是什么原因? -
台哀伊迈: 你好!是真空多弧离子镀膜机的偏压有问题吧?你请检查吧.

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