光刻机是芯片制造的关键，现在在中国有哪些企业能够研制光刻机？
终是打破了荷兰的垄断，中国有了自己的光刻机，前途无限！
世界上制造光刻机技术最为先进的应该是荷兰，荷兰现在疫情闹得挺严重的，俄罗斯曾经给出一个神助攻督促，或者说给荷兰建议用荷兰的供货机换我们的口罩，因为现在医疗资源非常紧张，尤其是口罩和防护服。我们国家在光科技的研究制造方面和世界一流水平还有差距，我们不断的和全球做生意，有了经济交流，自然清楚其他国家处在一个什么样的水平大型的光客机精度够高的，光客机对我们国家的科技进步是产生决定性的作用的，比如说我们现在手机电脑所使用的芯片，我们的手机芯片是使用8毫米的还是6毫米的还是5毫米的，很大程度上取决于光刻机到底有多先进，而我们没有精度特别高的工作机，所以我们的自主芯片有难度。有很多企业是可以自己制造光刻机的，光刻机要说简单也简单，说难也难，如果说精度要求不是特别高的话，我们国家自己制造的，其实也没有问题，但是要求足够高的精度那就有问题了，因为掌握这些顶级技术的国家就那么几个，而且那些国家他们都形成了一个内部的联盟，这些技术不对外出口，他们内部封闭，我们连相应的研究资料以及设备都买不到，有钱也买不到，所以这是没有办法的事情，我们就得不断去提高自己的自主创新能力，自己去解决这个问题，毕竟靠别人永远不如靠自己。研究这个东西，当然不是个体企业的资金所能够支持的，有很多世界上能够制造高级光客机，也就是那些顶尖技术的光客机的企业都是有国家支持的，有他们的国家级拨给他们相应的资金，政策，让他们有更多的研发空间，能够去不断提高自主的创新能力，在世界范围内占有一席之地，对于提升综合国力，提升国家地位有着非常大的作用。
光刻机是芯片制造的关键设备，我国投入研发的公司有微电子装备(集团)股份，长春光机所，中国科学院等都在研发，合肥芯硕半导体有限公司，先腾光电科技有限公司，先腾光电科技有限公司， 合肥芯硕半导体有限公司都有研发以及制造。而且有了一定的科研成果，但是目前我国高端芯片的制造却主要依赖荷兰进口的光刻机。我国光刻机在不断发展但是与国际三巨头尼康佳能（中高端光刻机市场已基本没落）ASML（中高端市场近乎垄断）比差距很大。
光刻机是芯片制造的核心设备之一，按照用途可以分为好几种：有用于生产芯片的光刻机；有用于封装的光刻机；还有用于LED制造领域的投影光刻机。用于生产芯片的光刻机是中国在半导体设备制造上最大的短板，国内晶圆厂所需的高端光刻机完全依赖进口，光刻机被业界誉为集成电路产业皇冠上的明珠，研发的技术门槛和资金门槛非常高。也正是因此，能生产高端光刻机的厂商非常少，到最先进的14nm光刻机就只剩下ASML，日本佳能和尼康已经基本放弃第六代EUV光刻机的研发。相比之下，国内光刻机厂商则显得非常寒酸。
上海微电子装备(集团)股份有限光刻机主要用于广泛应用于集成电路前道、先进封装、FPD、MEMS、LED、功率器件等制造领域，2018年出货大概在50-60台之间。营业收入未公布，政府是有大量补贴的。处于技术领先的上海微电子装备有限公司已量产的光刻机中性能最好的是90nm光刻机，制程上的差距就很大，国内晶圆厂所需的高端光刻机完全依赖进口。
2016年11月15日，由长春光机所牵头承担的国家科技重大专项02专项——“极紫外光刻关键技术研究”项目顺利完成验收前现场测试。在长春光机所、成都光电所、上海光机所、中科院微电子所、北京理工大学、哈尔滨工业大学、华中科技大学等参研单位的共同努力下，历经八年的戮力攻坚，圆满地完成了预定的研究内容与攻关任务，突破了现阶段制约我国极紫外光刻发展的核心光学技术，初步建立了适应于极紫外光刻曝光光学系统研制的加工、检测、镀膜和系统集成平台，为我国光刻技术的可持续发展奠定了坚实的基础。
合肥芯硕半导体有限公司成立与2006年4月,是国内首家半导体直写光刻设备制造商。该公司自主研发的ATD4000,已经实现最高200nm的量产。
无锡影速成立与2015年1月,影速公司是由中科院微电子研究所联合业内资深技术团队、产业基金共同发起成立的专业微电子装备高科技企业。影速公司已成功研制用于半导体领域的激光直写/制版光刻设备、国际首台双台面高速激光直接成像连线设备(LDI),已经实现最高200nm的量产。无锡影速成立与2015年1月,影速公司是由中科院微电子研究所联合业内资深技术团队、产业基金共同发起成立的专业微电子装备高科技企业。影速公司已成功研制用于半导体领域的激光直写/制版光刻设备、国际首台双台面高速激光直接成像连线设备(LDI),已经实现最高200nm的量产。
先腾光电成立于2013年4月,已经实现最高200nm的量产,在2014国际半导体设备及材料展览会上,先腾光电亮出了完全自主知识产权的LED光刻机生产技术,震惊四座。
国内光刻机技术比较先进，已经量产的应该是上海微电子装备有限责任公司（简称SMEE)，已经实现90nm的量产，目前正在研究65nm的工艺。
其他的包括 合肥芯硕半导体有限公司、先腾光电科技有限公司、无锡影速半导体科技有限公司等一些企业，在光刻机上衣和有自己的成果。
但这些光刻机企业，目前还是在原来的道路上一步一步往前走，相信只要努力，未来也能达到很高的水平。但对于光刻机行业来说，他们的追赶速度虽然很快，但技术进步的速度也是很快。所以，他们只能持续在低端方面，占有一定的市场份额。
如果要进入高端市场，目前国内最先进的光刻机技术，应该是中科院光电技术研究所的技术成果。
2018年11月29日，新华社报道称，国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”29日通过验收。据悉，该光刻机由中国科学院光电技术研究所研制，光刻分辨力达到22纳米，结合双重曝光技术后，未来还可用于制造10纳米级别的芯片。
也就是中国科学院光电技术研究所的这个成果，直接将中国光刻机技术向前推进好几代。当然，这个科研成果，距离完整实现量产，还有好几个关卡要过。
首先是光刻分辨力达到22纳米只是一次极限测试，属于单次曝光，还制造不了芯片。其次是，能够实验室制造芯片，还要实现量产，这又是一个关卡。但总的来说，已经有了“光刻分辨力达到22纳米”，那么距离成型机，已经没有那么遥远了。
该光刻机由中国科学院光电技术研究所研制，光刻分辨力达到22纳米，结合双重曝光技术后，未来还可用于制造10纳米级别的芯片
先腾光电科技有限公司、无锡影速半导体科技有限公司等一些企业，在光刻机上衣和有自己的成果
我所知的是上海微电子装备有限责任公司
光刻机和芯片有什么关系
光刻机是芯片制造过程中的关键设备，它用于将电路图案精确地投影到硅片上，是芯片生产中不可或缺的一环。光刻工艺是芯片生产中最为关键的步骤之一，其技术的先进程度直接影响着芯片的集成水平和性能。简言之，光刻机是实现芯片制造的核心装备。二、光刻机与芯片的难度比较 光刻机和芯片制造均属于高科技...
光刻机在芯片生产中的作用
光刻机是芯片制造过程中的关键设备。它被称作掩膜对准曝光机，在芯片生产中扮演着至关重要的角色，特别是在光刻工艺这一核心步骤中。光刻工艺是整个芯片生产流程中最为关键的一环，因此光刻机成为不可或缺的设备。2. 决定芯片精密尺寸 光刻机决定了芯片的精确尺寸。设计师首先设计出芯片的线路图，然后...
光刻机和芯片的关系
光刻机是光刻技术的实施工具，而光刻技术是芯片制造技术的关键组成部分。光刻机利用光学原理将图案投射到硅片上。要实现芯片的自主生产，光刻机是必不可少的，它就像工业生产中的机床一样。4. 荷兰的技术领先地位 目前，全球最先进的光刻机技术源自荷兰。我国与荷兰在光刻机技术上的差距仍然显著。然而...
光刻机和芯片有什么关系,为什么没有光刻机就制造不了芯片?
光刻机是芯片制造过程中的关键设备。在大多数人眼中，芯片技术代表了一个国家或地区的科技高峰，而光刻机则像是这个高峰的“守护者”。对于我国来说，由于光刻机的限制，我们在芯片制造领域面临挑战。那么，芯片的制造真的那么困难吗？光刻机与芯片之间有什么联系，为什么没有光刻机就无法制造出芯片呢？
光刻机是干什么用的,工作原理是什么?
一、用途 光刻机是芯片制造的核心设备之一，按照用途可以分为好几种：有用于生产芯片的光刻机；有用于封装的光刻机；还有用于LED制造领域的投影光刻机。用于生产芯片的光刻机是中国在半导体设备制造上最大的短板，国内晶圆厂所需的高端光刻机完全依赖进口，本次厦门企业从荷兰进口的光刻机就是用于芯片...
光刻机和芯片有什么关系
光刻机是光刻技术的载体，而光刻技术是芯片技术的重要部分，光刻机的原理就是用光把图案投射到硅片上。如果想要自主生产芯片，光刻机是必要的，就像工业中的机床一样。光刻机与芯片存在着密不可分的关系。芯片与光刻机的关系，就好比是鱼和水。没了光刻机，再高端的芯片技术也只能停留在理想层面。
为何说我国已掌握光刻机的核心技术?
3. 光刻机是芯片制造的关键设备，我国企业如上海微电子装备有限公司已能生产此类设备，并在某些技术指标上达到了国际先进水平。4. 除了企业，国内科研团队和高校在光刻机技术研究上也取得了突破，为我国光刻机产业的发展做出了贡献。5. 尽管我国在光刻机技术上已取得进步，但与国际先进水平相比仍有差距...
什么是光刻机
1、光刻机，是现代光学工业之花，是半导体行业中的核心技术。可能有很多人都无法切身理解光刻机的重要地位。光刻机，是制造芯片的机器。要是没有了光刻机，我们就没有办法造出芯片，自然也就不会有我们现在的手机、电脑了。2、光刻机是用于芯片制造的核心设备，按照用途可以分为用于生产芯片的光刻机...
光刻机和芯片有什么关系,为什么没有光刻机就制造不了芯片?
芯片制造的步骤，更易理解芯片制造的困难程度。将晶圆提炼出来，提炼出来的单晶硅，做成硅锭，再切割成数个圆片，这就是成为晶圆的东西；在晶圆上涂抹光刻胶是制约我们发展的因素。光刻胶，来自于日本和美国两大国家，特别是高端，涂胶显影机只有日本能够制造出来；在晶圆上涂抹光刻胶，通过光刻机的光源，...
中科院研发成功2nm光刻机
众所周知，光刻机是芯片制造的核心设备，但其技术难度极高，长期以来依赖进口。然而，由于国际政治因素的影响，我国无法自由获取先进的光刻机技术。这导致华为等高科技企业面临“缺芯”的困境，手机业务受到重创。为了打破这一困境，中科院立下了大功。为了实现我国高端光刻机的国产化，中科院长...
爱新觉罗丽丙氨： 中国芯片制造技术最大的短板是光克,据说目前国内自己能生产的最先进的光克机是90纳米的,只相当于2000年左右英特尔刚推出奔腾4处理的工艺水平,而最先进的光克机是荷兰的,已经可以做到10纳米以内了.目前由于技术封锁荷兰最先进的光克机不卖给中国,只有中低端,目前汰态的才卖给中国,据说是三四十纳米的水平,所以中国要想制造最先进的芯片,必须依靠自己研发,目前还有相当的差距.
牡丹江市18980109763： 以中国现在的科技实力,造出像高通那样的商业化芯片需要多久?？
爱新觉罗丽丙氨： 设计是可以设计的出,比如华为海思就已经设计出来了,但是生产方面无法搞定,你就是让高通来他们也是找人代工的.而且这个不是有时间就能解决的问题,制造高制程芯片的高端光刻机是对中国禁售的,所以根本无法生产.如果要从头研发光刻机,那花费的时间得10年起了.更何况如果以其他厂商现有产品为竞争对象研发,等你的光刻机研发出来,那已经是过时很久的光刻机了.
牡丹江市18980109763： 纳米级的芯片是通过什么方法制作的 - ？
爱新觉罗丽丙氨： 芯片现在都是采用光刻技术制作出来的半导体集成电路,所谓纳米芯片指的是集成电路的特征尺寸为多少多少纳米.特征尺寸越小,芯片的集成度越高,芯片运算能力越强,但是耗电量和发热量也随之增大.现在半导体技术的发展,芯片的特征尺寸基本上都是一百纳米以下了. 注意这里的特征尺寸指的是工艺能精确控制的最小的结构尺寸,并不是说这个芯片就这么大. 光刻的工艺是现在基板(一般是旦唬测舅爻矫诧蝎超莽单晶硅)上面铺上一层光刻胶,然后在掩膜板的遮挡下进行曝光,然后把胶洗掉,再沉积硅,再涂胶,再曝光,再洗胶,再沉积.如此一层一层循环往复,制成多层复杂的半导体集成电路.
牡丹江市18980109763： 现在中国最先进芯片工艺是多少纳米 - ？
爱新觉罗丽丙氨： 中企最高技术28纳米,而且还是中芯挖的台干带来的技术芯片工艺最重要的机器是光刻机,目前被欧洲垄断.欧洲有条约禁止向社会主义国家出口类似光刻机的高科技设备
牡丹江市18980109763： 光刻机中国能造吗?？
爱新觉罗丽丙氨： 暂时不能光刻机不是一项单一的技术,而是现代各项高科技技术的集成,成品背后需要无数的产业链支持,以中国现在的科技水平暂时还不能造出.当中国专家去荷兰阿斯...
牡丹江市18980109763： 芯片制造过程中,关键环节是光刻蚀吗 - ？
爱新觉罗丽丙氨： 对的,这个也是设计成型和生产成本的大头吧!望采纳
牡丹江市18980109763： 光刻技术的原理是什么? - ？
爱新觉罗丽丙氨： 光刻工艺是利用类似照相制版的原理,在半导体晶片表面的掩膜层上面刻蚀精细图形的表面加工技术.也就是使用可见光和紫外光线把电路图案投影“印刷”到覆有感光材料的硅晶片表面,再经过蚀刻工艺去除无用部分,所剩就是电路本身了....
牡丹江市18980109763： 为什么说中国造不出cpu,中国不是有麒麟和澎 - ？
爱新觉罗丽丙氨： 因为麒麟的大部分用的都是外国的专利 架构问arm买的 代工厂的光刻机是国外的 华为最多就是负责设计一下 打包一下. 中国半导体是被列强作为战略设备垄断的 没有什么技术积累 落后世界10年的
